基于阳极氧化法的多孔氧化钨气敏薄膜的制备与研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·课题背景及意义 | 第9-10页 |
| ·气敏传感器 | 第10-13页 |
| ·气敏传感器的定义 | 第10页 |
| ·气敏传感器的分类 | 第10-11页 |
| ·气敏传感器的主要特性参数 | 第11-13页 |
| ·氧化钨薄膜气敏传感器的研究进展 | 第13-16页 |
| ·本论文的研究目标和内容 | 第16-18页 |
| 第二章 实验过程相关理论 | 第18-27页 |
| ·WO_3的基本性质及气敏机理 | 第18-22页 |
| ·WO_3的晶体结构 | 第18-19页 |
| ·电阻型WO_3薄膜气敏传感器的气敏机理 | 第19-21页 |
| ·比表面值与晶粒尺寸对WO_3气敏性能的影响 | 第21-22页 |
| ·WO_3薄膜制备工艺 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射的成膜机理 | 第23-25页 |
| ·薄膜的晶体结构及微观形貌表征技术 | 第25-27页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析技术 | 第25页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(FESEM)技术 | 第25-27页 |
| 第三章 多孔氧化钨薄膜气敏传感器的制备与性能测试 | 第27-34页 |
| ·实验流程概述 | 第27-28页 |
| ·多孔氧化钨薄膜气敏传感器的制备流程 | 第28-32页 |
| ·基片清洗 | 第28页 |
| ·叉指电极的制备 | 第28-29页 |
| ·金属钨/WO_3薄膜的沉积工艺 | 第29-31页 |
| ·快速热处理 | 第31页 |
| ·阳极氧化工艺 | 第31-32页 |
| ·热处理工艺 | 第32页 |
| ·薄膜微观结构表征 | 第32页 |
| ·气敏性能测试 | 第32-33页 |
| ·选择性及稳定性测试 | 第33-34页 |
| 第四章 多孔氧化钨薄膜气敏传感器性能初探 | 第34-56页 |
| ·本章内容概述 | 第34-35页 |
| ·多孔氧化钨样品条件及相关实验设定 | 第35页 |
| ·多孔氧化钨薄膜微观形貌分析 | 第35-38页 |
| ·阳极氧化电压对薄膜表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·阳极氧化时间对薄膜表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·多孔氧化钨气敏传感器NO_2敏感特性研究 | 第38-43页 |
| ·阳极氧化电压对薄膜NO_2敏感性能的影响 | 第38-41页 |
| ·阳极氧化时间对薄膜NO_2敏感性能的影响 | 第41-43页 |
| ·对照组参数设定 | 第43-44页 |
| ·两种薄膜的微观结构对比 | 第44-47页 |
| ·微观形貌对比 | 第44-46页 |
| ·晶体结构对比 | 第46-47页 |
| ·两种薄膜的NO_2敏感性能对比 | 第47-53页 |
| ·作温度对两种薄膜NO_2敏感性能的影响 | 第47-50页 |
| ·最佳工作温度下两种薄膜的NO_2敏感性能研究 | 第50-52页 |
| ·气敏机理探讨 | 第52-53页 |
| ·多孔氧化钨薄膜的气体选择性研究 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 快速热处理改良多孔氧化钨薄膜气敏性能研究 | 第56-67页 |
| ·样品条件及制备流程设定 | 第56-58页 |
| ·薄膜微观结构表征 | 第58-60页 |
| ·晶体结构分析(XRD) | 第58-59页 |
| ·微观形貌分析(SEM) | 第59-60页 |
| ·样品NO_2敏感性能研究 | 第60-64页 |
| ·作温度对样品NO_2敏感性能的影响 | 第60-62页 |
| ·最佳工作温度下样品的NO_2敏感性能研究 | 第62-64页 |
| ·样品气敏性能稳定性研究 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 总结与展望 | 第67-69页 |
| ·总结与讨论 | 第67-68页 |
| ·工作展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
