基于二元光学的阵列位相环的设计与研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| ·本课题的研究背景 | 第10-11页 |
| ·微细加工技术 | 第11-14页 |
| ·论文的主要内容 | 第14-15页 |
| 第二章 脉冲半导体泵浦固体激光整形方法 | 第15-28页 |
| ·半导体激光器 | 第15-16页 |
| ·脉冲半导体泵浦固体激光器 | 第16-18页 |
| ·激光整形技术方法 | 第18-27页 |
| ·时域整形技术 | 第19-21页 |
| ·空域整形技术 | 第21-27页 |
| ·总结 | 第27-28页 |
| 第三章 二元光学均匀器的设计 | 第28-49页 |
| ·二元光学理论及相关推导 | 第28-41页 |
| ·二元光学元件的衍射效率 | 第29-32页 |
| ·光束变化的相关原理 | 第32-34页 |
| ·应用MATLAB(?)仿真GS算法 | 第34-35页 |
| ·采用MATLAB(?)对GS算法的仿真 | 第35-41页 |
| ·阵列位相环匀光器 | 第41-44页 |
| ·阵列位相环的参数 | 第44-45页 |
| ·石英参数的选择 | 第45-47页 |
| ·总结 | 第47-49页 |
| 第四章 阵列位相环的模拟与制作 | 第49-68页 |
| ·阵列位相环的设计与模拟 | 第49-51页 |
| ·阵列位相环器的掩膜设计 | 第51-57页 |
| ·掩膜版的设计 | 第51-53页 |
| ·掩膜版的对准标记的设计 | 第53-57页 |
| ·石英加工的工艺流程 | 第57-66页 |
| ·石英基片的处理 | 第58-59页 |
| ·增粘剂 | 第59页 |
| ·光学曝光的方式 | 第59-62页 |
| ·蒸金属和剥离 | 第62-63页 |
| ·等离子刻蚀 | 第63-66页 |
| ·第二版 | 第66页 |
| ·总结 | 第66-68页 |
| 第五章 阵列位相环匀光器的测试 | 第68-79页 |
| ·阵列位相环元件的形貌 | 第68-70页 |
| ·元件照片 | 第68-69页 |
| ·显微镜下的照片 | 第69-70页 |
| ·实验检测装置 | 第70页 |
| ·电荷耦合器件CCD | 第70-71页 |
| ·整形后激光波形的比较 | 第71-74页 |
| ·产生的误差分析 | 第74-76页 |
| ·试验效果 | 第76-78页 |
| ·总结 | 第78-79页 |
| 总结与展望 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第87-88页 |
