多层金属—电介质结构的聚焦特性及角度调控
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-17页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 研究背景及意义 | 第12-14页 |
| 1.3 国内外研究进展 | 第14-16页 |
| 1.4 本文主要内容和章节安排 | 第16-17页 |
| 第2章 多层金属-电介质结构的理论基础 | 第17-30页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 金属材料色散模型 | 第17-19页 |
| 2.3 表面等离子体激元 | 第19-22页 |
| 2.4 局域表面等离子体激元 | 第22-23页 |
| 2.5 电磁场的数值模拟方法 | 第23-29页 |
| 2.5.1 转移矩阵算法 | 第23-25页 |
| 2.5.2 时域有限差分法 | 第25-29页 |
| 2.5.3 有限元法 | 第29页 |
| 2.6 本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 多层金属-电介质结构的聚焦特性 | 第30-46页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 多层金属-电介质结构的基本光学特性 | 第30-35页 |
| 3.2.1 多层金属-电介质结构的色散特性及分类 | 第31-34页 |
| 3.2.2 多层金属-电介质结构的传输性质 | 第34-35页 |
| 3.3 聚焦元件设计和数值模拟分析 | 第35-40页 |
| 3.4 等效介质差异探究 | 第40-41页 |
| 3.5 结构参数和增益介质对聚焦性能的影响 | 第41-45页 |
| 3.5.1 狭缝宽度的影响 | 第42页 |
| 3.5.2 电介质介电常数的影响 | 第42-43页 |
| 3.5.3 金属填充比的影响 | 第43-44页 |
| 3.5.4 增益介质的影响 | 第44-45页 |
| 3.6 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 多层金属-电介质结构的角度调控 | 第46-53页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 Type Ⅰ多层膜的角度调控 | 第46-50页 |
| 4.2.1 负折射现象 | 第46-48页 |
| 4.2.2 入射端面对折射角度的影响 | 第48-49页 |
| 4.2.3 出射端面对折射角度的影响 | 第49-50页 |
| 4.3 Type Ⅱ多层膜的角度调控 | 第50-51页 |
| 4.4 金属-电介质膜的角度调控 | 第51-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第62-63页 |
| 附录B 攻读硕士学位期间参与的项目研究 | 第63页 |
