| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 引言 | 第9-18页 |
| 1.1 滤波器功能分类 | 第9-10页 |
| 1.2 紫外滤波材料应用背景 | 第10-12页 |
| 1.3 硫酸镍晶体简介及应用 | 第12-13页 |
| 1.3.1 硫酸镍及其晶体简介 | 第12页 |
| 1.3.2 硫酸镍晶体的应用 | 第12-13页 |
| 1.4 硫酸镍系列晶体的研究概况 | 第13-16页 |
| 1.5 本论文的具体工作 | 第16-18页 |
| 第二章 实验原理与方法 | 第18-27页 |
| 2.1 过渡金属配合物的配位场光谱理论 | 第18-20页 |
| 2.2 晶体生长理论 | 第20-24页 |
| 2.2.1 晶体平衡形态理论 | 第20-22页 |
| 2.2.2 界面生长理论 | 第22页 |
| 2.2.3 层生长理论和螺旋生长理论 | 第22-24页 |
| 2.3 晶体生长方法 | 第24-27页 |
| 2.3.1 降温法 | 第24-25页 |
| 2.3.2 蒸发法 | 第25-26页 |
| 2.3.3 水热法 | 第26-27页 |
| 第三章 Ni(C_2H6_N_2O)_6SO_4晶体材料的合成、结构与性能研究 | 第27-40页 |
| 3.1 研究思路 | 第27-28页 |
| 3.2 合成实验部分 | 第28-29页 |
| 3.2.1 试剂、原料与测试仪器 | 第28页 |
| 3.2.2 材料的合成 | 第28-29页 |
| 3.3 结构分析 | 第29-34页 |
| 3.4 粉末衍射 | 第34-36页 |
| 3.5 性质表征与微观研究 | 第36-39页 |
| 3.5.1 热重及差热分析 | 第36页 |
| 3.5.2 紫外-可见透过光谱 | 第36-38页 |
| 3.5.3 晶面指数的标定 | 第38页 |
| 3.5.4 晶体的位错腐蚀坑 | 第38-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 Mn_xNi_((1-x))(C_2H_6N_2O)_6SO_4晶体材料的合成、结构与性能研究 | 第40-62页 |
| 4.1 研究思路 | 第40页 |
| 4.2 合成实验部分 | 第40-42页 |
| 4.2.1 试剂、原料与测试仪器 | 第40页 |
| 4.2.2 材料的合成 | 第40-42页 |
| 4.3 结构分析 | 第42-51页 |
| 4.4 粉末衍射 | 第51-55页 |
| 4.5 性质表征与微观研究 | 第55-60页 |
| 4.5.1 热重及差热分析 | 第55-57页 |
| 4.5.2 紫外-可见透过光谱 | 第57-58页 |
| 4.5.3 晶体的位错腐蚀坑与生长台阶 | 第58-60页 |
| 4.6 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 Co_(0.5)Ni_(0.5)(C_2H_6N_2O)_6SO_4晶体材料的合成、结构与性能研究 | 第62-72页 |
| 5.1 研究思路 | 第62页 |
| 5.2 合成实验部分 | 第62-63页 |
| 5.2.1 试剂、原料与测试仪器 | 第62页 |
| 5.2.2 材料的合成 | 第62-63页 |
| 5.3 结构分析 | 第63-67页 |
| 5.4 粉末衍射 | 第67-69页 |
| 5.5 性质表征与微观研究 | 第69-71页 |
| 5.5.1 热重及差热分析 | 第69页 |
| 5.5.2 紫外-可见透过光谱 | 第69-70页 |
| 5.5.3 晶体的位错腐蚀坑 | 第70-71页 |
| 5.6 本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 附录 晶体的结构信息 | 第77-86页 |
| 作者简介 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
