晶圆制造产能规划方法与应用研究
| 附件 | 第6-7页 |
| 摘要 | 第7-8页 |
| ABSTRACT | 第8页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 产能规划的含义与重要性 | 第11-13页 |
| 1.1.1 产能规划的含义 | 第11-12页 |
| 1.1.2 产能规划的重要性 | 第12页 |
| 1.1.3 产能规划的难度 | 第12-13页 |
| 1.2 产能规划的方法 | 第13-14页 |
| 1.3 国内外研究现状分析 | 第14-15页 |
| 1.4 课题研究背景 | 第15-17页 |
| 1.4.1 研究目标与意义 | 第16页 |
| 1.4.2 研究内容与取得的成果 | 第16页 |
| 1.4.3 本论文组织结构 | 第16-17页 |
| 1.5 本章小结 | 第17-18页 |
| 第二章 半导体制造工艺分析及研究方向 | 第18-26页 |
| 2.1 半导体制造前道工艺 | 第18-21页 |
| 2.2 半导体制造后道工艺 | 第21-22页 |
| 2.3 半导体制造系统的构成及特点 | 第22-24页 |
| 2.3.1 半导体制造系统的构成 | 第22-24页 |
| 2.3.2 半导体制造系统的特点 | 第24页 |
| 2.4 本文研究的方向 | 第24页 |
| 2.5 本章小结 | 第24-26页 |
| 第三章 产能规划之设备产能研究 | 第26-52页 |
| 3.1 度量标准与方法 | 第26-27页 |
| 3.2 OEE 概述 | 第27-28页 |
| 3.3 设备可工作时间的研究与系统建立 | 第28-33页 |
| 3.3.1 设备状态指标建立与定义研究 | 第28-31页 |
| 3.3.2 设备状态报表系统建立 | 第31-32页 |
| 3.3.3 设备可工作时间标准设定 | 第32-33页 |
| 3.4 设备小时产能的研究与系统建立 | 第33-46页 |
| 3.4.1 设备小时产能的研究 | 第33-37页 |
| 3.4.2 设备小时产能报表系统的建立 | 第37-46页 |
| 3.4.3 设备小时产出量标准数据的管理维护 | 第46页 |
| 3.5 设备作业效率的研究 | 第46-51页 |
| 3.5.1 设备作业效率算法研究 | 第46-50页 |
| 3.5.2 设备速度效率标准设定 | 第50-51页 |
| 3.6 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 产能规划方法与应用 | 第52-65页 |
| 4.1 建立产能规划资源 | 第52-54页 |
| 4.1.1 产能需求分析 | 第52页 |
| 4.1.2 产能规划资源建立 | 第52-54页 |
| 4.2 建立产能规划模型 | 第54-64页 |
| 4.2.1 计算模型研究 | 第54-55页 |
| 4.2.2 计算模型建立 | 第55-59页 |
| 4.2.3 静态产能规划 | 第59-61页 |
| 4.2.4 动态产能规划 | 第61-64页 |
| 4.2.5 产能的改善 | 第64页 |
| 4.3 本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 总结与展望 | 第65-68页 |
| 5.1 总结 | 第65页 |
| 5.2 本文的不足及展望 | 第65-68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第71页 |
