碘化铅纳米线制备及其光电性能研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-34页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 纳米材料概述 | 第12-27页 |
| 1.2.1 一维纳米材料生长机制 | 第12-13页 |
| 1.2.2 一维纳米材料制备方法 | 第13-24页 |
| 1.2.3 一维纳米材料性质及应用 | 第24-27页 |
| 1.3 PbI_2纳米材料研究进展 | 第27-29页 |
| 1.4 本论文工作的意义、目的和内容 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-34页 |
| 第二章 样品的制备及表征 | 第34-41页 |
| 2.1 纳米线样品制备工艺 | 第34-35页 |
| 2.1.1 设备介绍 | 第34-35页 |
| 2.1.2 纳米线制备过程 | 第35页 |
| 2.2 材料表征方法及原理 | 第35-40页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析仪 | 第35-36页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第36-37页 |
| 2.2.3 高分辨透射电子显微镜 | 第37-38页 |
| 2.2.4 光电性能测试系统 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第三章 器件微加工工艺 | 第41-63页 |
| 3.1 光刻技术基本原理 | 第41-43页 |
| 3.2 无掩膜紫外光刻工艺研究及数据分析 | 第43-60页 |
| 3.2.1 光刻技术制备微纳器件 | 第44-56页 |
| 3.2.2 纳米线转移至电极器件 | 第56-58页 |
| 3.2.3 纳米线接入电极方法研究 | 第58-60页 |
| 3.3 本章小结 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-63页 |
| 第四章 PbI_2纳米线表征及光电特性分析 | 第63-72页 |
| 4.1 PbI_2纳米材料XRD表征 | 第63-64页 |
| 4.2 PbI_2纳米材料SEM/EDS分析 | 第64-66页 |
| 4.3 PbI_2纳米线光电特性分析 | 第66-69页 |
| 4.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 第五章 结论与展望 | 第72-74页 |
| 5.1 结论 | 第72页 |
| 5.2 展望 | 第72-74页 |
| 研究生期间发表的学术论文与研究成果 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
