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硅包氧化精炼过程气液两相流动行为的分析与优化

摘要第6-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第12-28页
    1.1 课题研究背景及其发展状况第12-13页
    1.2 工业硅生产及应用第13-17页
        1.2.1 工业硅生产第14-15页
        1.2.2 在化学工业的应用第15-16页
        1.2.3 在电子行业中的应用第16页
        1.2.4 在冶金行业中的应用第16-17页
    1.3 工业硅炉外精炼工艺研究现状第17-21页
        1.3.1 工业硅炉外精炼简介第17-19页
        1.3.2 工业硅炉外氧化精炼工艺现状第19-21页
    1.4 气液两相流数值模拟研究现状第21-26页
        1.4.1 CFD技术及其在冶金行业的应用第21-24页
        1.4.2 气液两相流数值模拟第24-26页
    1.5 本论文的工作内容、目的及意义第26-28页
        1.5.1 本论文的工作内容第26-27页
        1.5.2 本论文工作的目的及意义第27-28页
第二章 工业硅炉外精炼硅包数学模型的建立第28-40页
    2.1 物理模型第28-29页
    2.2 物理模型建立的依据第29-32页
        2.2.1 几何相似第29-31页
        2.2.2 运动与动力相似第31-32页
    2.3 多相流模型第32-35页
        2.3.1 多相流分类第32-33页
        2.3.2 VOF模型第33-34页
        2.3.3 界面通量的求法第34-35页
    2.4 数学模型的建立第35-39页
        2.4.1 数值模拟对象及网格划分第35-37页
        2.4.2 边界条件设置第37页
        2.4.3 计算模型和求解器的选择第37-39页
    2.5 小结第39-40页
第三章 硅包内水中气泡数值模拟及实验对比第40-50页
    3.1 单个气泡的模拟分析第40-43页
    3.2 连续气体进口的模拟分析第43-46页
    3.3 硅包连续气体进口实验对比第46-48页
    3.4 小结第48-50页
第四章 硅包内三维数值模拟及其分析第50-60页
    4.1 三维硅包内流体动力分析第50-54页
        4.1.1 三维硅包内纵截面流体动力分析第50-51页
        4.1.2 三维硅包内横截面流体动力分析第51-54页
    4.2 三维硅包内气体含量分析第54-56页
    4.3 三维硅包内的压力分布第56-57页
    4.4 三维硅包内温度场初步分析第57-59页
    4.5 小结第59-60页
第五章 硅包三维水模型的实验及数据分析第60-74页
    5.1 实验原理及实验装置第60-63页
        5.1.1 实验原理第60-61页
        5.1.2 实验装置第61-63页
    5.2 无底吹实验对照组第63-64页
    5.3 液面高度对混匀时间的影响及数据处理第64-65页
    5.4 底吹流量对混匀时间的影响及数据处理第65-67页
    5.5 进口位置分布对混匀时间及流场的影响及数据处理第67-70页
    5.6 优化前后流场对比分析第70-72页
    5.7 小结第72-74页
第六章 结论与展望第74-76页
    6.1 结论第74页
    6.2 展望第74-76页
致谢第76-78页
参考文献第78-84页
附录第84页

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