摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-28页 |
1.1 课题研究背景及其发展状况 | 第12-13页 |
1.2 工业硅生产及应用 | 第13-17页 |
1.2.1 工业硅生产 | 第14-15页 |
1.2.2 在化学工业的应用 | 第15-16页 |
1.2.3 在电子行业中的应用 | 第16页 |
1.2.4 在冶金行业中的应用 | 第16-17页 |
1.3 工业硅炉外精炼工艺研究现状 | 第17-21页 |
1.3.1 工业硅炉外精炼简介 | 第17-19页 |
1.3.2 工业硅炉外氧化精炼工艺现状 | 第19-21页 |
1.4 气液两相流数值模拟研究现状 | 第21-26页 |
1.4.1 CFD技术及其在冶金行业的应用 | 第21-24页 |
1.4.2 气液两相流数值模拟 | 第24-26页 |
1.5 本论文的工作内容、目的及意义 | 第26-28页 |
1.5.1 本论文的工作内容 | 第26-27页 |
1.5.2 本论文工作的目的及意义 | 第27-28页 |
第二章 工业硅炉外精炼硅包数学模型的建立 | 第28-40页 |
2.1 物理模型 | 第28-29页 |
2.2 物理模型建立的依据 | 第29-32页 |
2.2.1 几何相似 | 第29-31页 |
2.2.2 运动与动力相似 | 第31-32页 |
2.3 多相流模型 | 第32-35页 |
2.3.1 多相流分类 | 第32-33页 |
2.3.2 VOF模型 | 第33-34页 |
2.3.3 界面通量的求法 | 第34-35页 |
2.4 数学模型的建立 | 第35-39页 |
2.4.1 数值模拟对象及网格划分 | 第35-37页 |
2.4.2 边界条件设置 | 第37页 |
2.4.3 计算模型和求解器的选择 | 第37-39页 |
2.5 小结 | 第39-40页 |
第三章 硅包内水中气泡数值模拟及实验对比 | 第40-50页 |
3.1 单个气泡的模拟分析 | 第40-43页 |
3.2 连续气体进口的模拟分析 | 第43-46页 |
3.3 硅包连续气体进口实验对比 | 第46-48页 |
3.4 小结 | 第48-50页 |
第四章 硅包内三维数值模拟及其分析 | 第50-60页 |
4.1 三维硅包内流体动力分析 | 第50-54页 |
4.1.1 三维硅包内纵截面流体动力分析 | 第50-51页 |
4.1.2 三维硅包内横截面流体动力分析 | 第51-54页 |
4.2 三维硅包内气体含量分析 | 第54-56页 |
4.3 三维硅包内的压力分布 | 第56-57页 |
4.4 三维硅包内温度场初步分析 | 第57-59页 |
4.5 小结 | 第59-60页 |
第五章 硅包三维水模型的实验及数据分析 | 第60-74页 |
5.1 实验原理及实验装置 | 第60-63页 |
5.1.1 实验原理 | 第60-61页 |
5.1.2 实验装置 | 第61-63页 |
5.2 无底吹实验对照组 | 第63-64页 |
5.3 液面高度对混匀时间的影响及数据处理 | 第64-65页 |
5.4 底吹流量对混匀时间的影响及数据处理 | 第65-67页 |
5.5 进口位置分布对混匀时间及流场的影响及数据处理 | 第67-70页 |
5.6 优化前后流场对比分析 | 第70-72页 |
5.7 小结 | 第72-74页 |
第六章 结论与展望 | 第74-76页 |
6.1 结论 | 第74页 |
6.2 展望 | 第74-76页 |
致谢 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-84页 |
附录 | 第84页 |