亚波长金属光栅偏振特性及制作工艺研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 偏振成像技术及其应用前景 | 第8-10页 |
| 1.2 亚波长光栅研究背景及应用前景 | 第10-11页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第11-18页 |
| 1.3.1 亚波长光栅理论及应用国内外研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3.2 亚波长光栅制作工艺国内外研究现状 | 第12-18页 |
| 1.4 课题研究意义及主要研究内容 | 第18-20页 |
| 1.4.1 课题研究意义 | 第18-19页 |
| 1.4.2 课题研究主要内容 | 第19-20页 |
| 2 亚波长光栅数值计算方法 | 第20-28页 |
| 2.1 严格耦合波分析法 | 第20-23页 |
| 2.2 时域有限差分法 | 第23-27页 |
| 2.3 本章小结 | 第27-28页 |
| 3 亚波长金属光栅的结构优化 | 第28-37页 |
| 3.1 等效介质理论分析法 | 第28-30页 |
| 3.2 亚波长金属光栅的数值仿真 | 第30-35页 |
| 3.2.1 金属材料的色散模型建立 | 第30-32页 |
| 3.2.2 光栅的结构参数优化 | 第32-35页 |
| 3.3 本章小结 | 第35-37页 |
| 4 亚波长金属光栅制作工艺研究 | 第37-54页 |
| 4.1 基本工艺流程 | 第37-41页 |
| 4.2 关键工艺研究 | 第41-47页 |
| 4.2.1 刻蚀中的光刻胶损耗 | 第41-43页 |
| 4.2.2 金属刻蚀中残留物的影响 | 第43-47页 |
| 4.3 工艺的改进 | 第47-53页 |
| 4.3.1 改进工艺流程简介 | 第47-51页 |
| 4.3.2 改进工艺样品检测 | 第51-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 5 双层亚波长金属光栅的制备与性能测试 | 第54-62页 |
| 5.1 双层亚波长金属光栅结构优化 | 第54-56页 |
| 5.2 双层亚波长金属光栅制作工艺 | 第56-59页 |
| 5.3 偏振特性测试 | 第59-60页 |
| 5.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 6 总结与展望 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69页 |
