摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
第1章 绪论 | 第14-43页 |
1.1 纳米TiO_2的应用 | 第14-18页 |
1.1.1 光催化 | 第14-17页 |
1.1.2 超亲水性 | 第17页 |
1.1.3 太阳能电池 | 第17-18页 |
1.2 TiO_2薄膜的改性研究 | 第18-21页 |
1.2.1 金属离子掺杂 | 第18-20页 |
1.2.2 非金属离子掺杂 | 第20页 |
1.2.3 半导体复合 | 第20-21页 |
1.2.4 有机聚合物复合 | 第21页 |
1.3 多孔TiO_2薄膜制备方法 | 第21-33页 |
1.3.1 模版法 | 第21-25页 |
1.3.2 水热法 | 第25-27页 |
1.3.3 溶胶凝胶法 | 第27页 |
1.3.4 液相沉积法 | 第27-28页 |
1.3.5 微球化法 | 第28-29页 |
1.3.6 微波辅助法 | 第29页 |
1.3.7 物理气相沉积法 | 第29-30页 |
1.3.8 化学气相沉积法 | 第30-31页 |
1.3.9 电化学法 | 第31-33页 |
1.4 真空喷镀研究现状 | 第33-41页 |
1.4.1 真空喷雾法 | 第33-35页 |
1.4.2 脉冲真空喷射法 | 第35-37页 |
1.4.3 机械振动辅助真空喷射法 | 第37-38页 |
1.4.4 真空电离喷射法 | 第38页 |
1.4.5 真空射流喷雾法 | 第38-40页 |
1.4.6 真空喷射干燥热解法 | 第40-41页 |
1.5 本文研究内容 | 第41-43页 |
第2章 真空喷涂实验系统 | 第43-49页 |
2.1 引言 | 第43页 |
2.2 真空喷射系统组成 | 第43-48页 |
2.2.1 真空泵的选择 | 第45-46页 |
2.2.2 基底温控装置 | 第46-47页 |
2.2.3 喷射控制装置 | 第47-48页 |
2.2.4 其他配件 | 第48页 |
2.3 本章小结 | 第48-49页 |
第3章 TiO_2纳米粒子的制备及其薄膜喷涂 | 第49-74页 |
3.1 水热技术及反应机理 | 第49-51页 |
3.1.1 水热技术 | 第49-50页 |
3.1.2 反应机理 | 第50-51页 |
3.2 薄膜样品的表征手段 | 第51-55页 |
3.2.1 X射线衍射分析仪 | 第51-52页 |
3.2.2 场发射分析扫描电镜 | 第52页 |
3.2.3 扫描探针显微镜 | 第52页 |
3.2.4 透射电子显微镜 | 第52-53页 |
3.2.5 紫外可见光分光光度计 | 第53页 |
3.2.6 电化学工作站 | 第53-54页 |
3.2.7 输运机理 | 第54-55页 |
3.3 水热法合成TiO_2纳米粒子及其薄膜制备 | 第55-63页 |
3.3.1 形貌分析 | 第56-58页 |
3.3.2 结构分析 | 第58-59页 |
3.3.3 透射电镜分析 | 第59-61页 |
3.3.4 光学特性 | 第61-63页 |
3.4 TiO_2纳米粒子的喷射及形貌表征 | 第63-64页 |
3.5 基底温度对TiO_2薄膜形貌及光电性能影响 | 第64-70页 |
3.5.1 开关特性分析 | 第64-66页 |
3.5.2 薄膜开关机理讨论 | 第66-68页 |
3.5.3 光学特性 | 第68-70页 |
3.5.4 表面形貌 | 第70页 |
3.6 旋涂与喷射法制备TiO_2纳米粒子薄膜阻变特性对比 | 第70-73页 |
3.6.1 喷射介质的制备及喷射工艺参数 | 第70页 |
3.6.2 旋涂介质的制备及旋涂工艺参数 | 第70-71页 |
3.6.3 开关特性分析 | 第71-72页 |
3.6.4 开关机理讨论 | 第72-73页 |
3.7 本章小结 | 第73-74页 |
第4章 真空喷涂制备TiO_2纳米粒子有机复合薄膜 | 第74-104页 |
4.1 引言 | 第74-75页 |
4.2 喷涂PFBT与TiO_2纳米粒子不同质量比复合薄膜的光电性能 | 第75-83页 |
4.2.1 喷射介质的制备及喷射工艺参数 | 第75-76页 |
4.2.2 开关特性分析 | 第76-78页 |
4.2.3 薄膜开关机理讨论 | 第78-80页 |
4.2.4 光学特性 | 第80-82页 |
4.2.5 表面形貌 | 第82-83页 |
4.3 不同层数对复合薄膜光电性能影响 | 第83-88页 |
4.3.1 开关特性分析 | 第83-85页 |
4.3.2 薄膜开关机理讨论 | 第85-86页 |
4.3.3 光学特性 | 第86-88页 |
4.4 旋涂法与真空喷射法制备有机薄膜阻变特性对比 | 第88-92页 |
4.4.1 喷射介质的制备及喷射工艺参数 | 第88-89页 |
4.4.2 旋涂介质的制备及旋涂工艺参数 | 第89页 |
4.4.3 形貌对比分析 | 第89-90页 |
4.4.4 开关特性分析 | 第90-91页 |
4.4.5 开关机理讨论 | 第91-92页 |
4.5 旋涂与喷射法制备有机包埋TiO_2薄膜阻变特性对比 | 第92-102页 |
4.5.1 喷射介质的制备及喷射工艺参数 | 第92-93页 |
4.5.2 旋涂介质的制备及旋涂工艺参数 | 第93-94页 |
4.5.3 表面形貌分析 | 第94-95页 |
4.5.4 透射电镜分析 | 第95-96页 |
4.5.5 开关特性分析 | 第96-98页 |
4.5.6 开关机理分析 | 第98-102页 |
4.6 本章小结 | 第102-104页 |
第5章 结论与展望 | 第104-106页 |
5.1 结论 | 第104-105页 |
5.2 展望 | 第105-106页 |
参考文献 | 第106-116页 |
致谢 | 第116-117页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第117页 |