| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-13页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 本文选题依据和研究内容 | 第11-13页 |
| 第二章 SDC/YSZ双分子层电解质薄膜制备及性能分析 | 第13-22页 |
| 2.1 SDC/YSZ双层电解质薄膜的制备 | 第13-14页 |
| 2.1.1 实验材料与表征方法 | 第13-14页 |
| 2.1.2 样品的制备 | 第14页 |
| 2.2 SDC/YSZ双层电解质薄膜的表征 | 第14-15页 |
| 2.2.1 SDC/YSZ双层电解质薄膜SEM分析 | 第14页 |
| 2.2.2 SDC/YSZ双层电解质薄膜XRD分析 | 第14-15页 |
| 2.2.3 SDC/YSZ双层电解质薄膜电学性能分析 | 第15页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第15-21页 |
| 2.3.1 不同退火温度样品的表面和截面形貌 | 第15-17页 |
| 2.3.2 SDC/YSZ薄膜晶体结构 | 第17-18页 |
| 2.3.3 SDC/YSZ薄膜EDX分析 | 第18页 |
| 2.3.4 样品的电学性能 | 第18-21页 |
| 2.4 本章总结 | 第21-22页 |
| 第三章 MgO单晶基底溅射(SDC/YSZ)_N超晶格电解质薄膜 | 第22-35页 |
| 3.1 (SDC/YSZ)_N超晶格电解质薄膜的制备 | 第22-23页 |
| 3.2 (SDC/YSZ)_N超晶格电解质薄膜性能表征 | 第23页 |
| 3.2.1 薄膜物相结构分析 | 第23页 |
| 3.2.2 薄膜显微结构分析 | 第23页 |
| 3.2.3 薄膜TEM分析 | 第23页 |
| 3.2.4 薄膜EDS分析 | 第23页 |
| 3.2.5 薄膜交流阻抗分析 | 第23页 |
| 3.3 (SDC/YSZ)N电解质薄膜性能分析 | 第23-34页 |
| 3.3.1 不同调制周期超晶格薄膜XRD | 第24-26页 |
| 3.3.2 超晶格薄膜表面和截面SEM | 第26页 |
| 3.3.3 超晶格薄膜截面TEM | 第26-28页 |
| 3.3.4 超晶格薄膜截面EDS | 第28页 |
| 3.3.5 超晶格薄膜的电学性能 | 第28-32页 |
| 3.3.6 超晶格膜样品的显微结构 | 第32-34页 |
| 3.4 本章总结 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-39页 |
| 致谢 | 第39-40页 |
| 硕士期间发表学术论文 | 第40页 |
