特高压线路用玻璃绝缘子材料与性能研究
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-27页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 玻璃绝缘子概述 | 第12-13页 |
1.2.1 玻璃绝缘子基本特性 | 第12页 |
1.2.2 玻璃绝缘子的应用领域 | 第12-13页 |
1.3 玻璃绝缘子研究进展 | 第13-20页 |
1.3.1 玻璃绝缘子材料 | 第13-15页 |
1.3.2 玻璃绝缘子结构设计与仿真 | 第15-16页 |
1.3.3 玻璃绝缘子制造技术 | 第16-18页 |
1.3.4 玻璃绝缘子钢化技术 | 第18-19页 |
1.3.5 防污闪技术 | 第19-20页 |
1.4 钠钙硅玻璃 | 第20-26页 |
1.4.1 钠钙硅玻璃组成 | 第20-22页 |
1.4.2 钠钙硅玻璃的结构 | 第22-23页 |
1.4.3 钠钙硅玻璃的性能 | 第23-25页 |
1.4.4 影响钠钙硅玻璃熔制的主要因素 | 第25-26页 |
1.5 本课题研究目的与意义 | 第26-27页 |
第二章 实验过程及测试方法 | 第27-33页 |
2.1 实验原料与设备 | 第27-28页 |
2.1.1 实验原料 | 第27页 |
2.1.2 实验设备 | 第27-28页 |
2.2 玻璃样品制备 | 第28页 |
2.3 测试方法 | 第28-33页 |
2.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第28页 |
2.3.2 差热分析(DTA) | 第28页 |
2.3.3 傅立叶转化红外光谱(FT-IR)测试 | 第28-29页 |
2.3.4 抗弯强度测试 | 第29-30页 |
2.3.5 热膨胀系数测试 | 第30页 |
2.3.6 介电性能测试 | 第30-31页 |
2.3.7 体积电阻率测试 | 第31-33页 |
第三章 绝缘子玻璃基础组分结构与性能的研究 | 第33-51页 |
3.1 引言 | 第33页 |
3.2 材料组成 | 第33-34页 |
3.3 钠钙硅玻璃结构研究 | 第34-41页 |
3.3.1 XRD分析 | 第34-36页 |
3.3.2 FT-IR、DTA结果与分析 | 第36-41页 |
3.4 钠钙硅玻璃机械性能研究 | 第41-45页 |
3.4.1 抗弯强度结果与分析 | 第41-43页 |
3.4.2 热膨胀系数结果与分析 | 第43-45页 |
3.5 钠钙硅玻璃电学性能研究 | 第45-50页 |
3.5.1 钠钙硅玻璃介电常数和介电损耗 | 第45-48页 |
3.5.2 钠钙硅玻璃体积电阻率研究 | 第48-50页 |
3.6 本章小结 | 第50-51页 |
第四章 Nb_2O_5对玻璃结构与性能的影响 | 第51-59页 |
4.1 引言 | 第51页 |
4.2 材料组成 | 第51-52页 |
4.3 Nb_2O_5对玻璃结构的影响 | 第52-54页 |
4.3.1 XRD结果与分析 | 第52页 |
4.3.2 FT-IR、DTA结果与分析 | 第52-54页 |
4.4 Nb_2O_5对玻璃机械性能的影响 | 第54-55页 |
4.4.1 Nb_2O_5对玻璃抗弯强度的影响 | 第54页 |
4.4.2 Nb_2O_5对玻璃热膨胀系数的影响 | 第54-55页 |
4.5 Nb_2O_5对玻璃电学性能的影响 | 第55-56页 |
4.5.1 Nb_2O_5对玻璃介电性能的影响 | 第55-56页 |
4.5.2 Nb_2O_5对玻璃体积电阻率的影响 | 第56页 |
4.6 本章小结 | 第56-59页 |
第五章 稀土离子对玻璃结构与性能的影响 | 第59-67页 |
5.1 引言 | 第59页 |
5.2 材料组成 | 第59-60页 |
5.3 稀土金属氧化物对玻璃结构的影响 | 第60-62页 |
5.3.1 XRD结果与分析 | 第60-61页 |
5.3.2 FT-IR结果与分析 | 第61-62页 |
5.4 稀土金属元素对玻璃机械性能的影响 | 第62-64页 |
5.4.1 La_2O_3对玻璃抗弯强度的影响 | 第62-63页 |
5.4.2 Y_2O_3对玻璃抗弯强度的影响 | 第63-64页 |
5.5 稀土金属元素对玻璃电学性能的影响 | 第64-65页 |
5.5.1 La_2O_3对玻璃介电性能的影响 | 第64页 |
5.5.2 Y_2O_3对玻璃介电性能的影响 | 第64-65页 |
5.6 本章小结 | 第65-67页 |
第六章 全文总结 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-75页 |
致谢 | 第75-77页 |
个人简历 | 第77-79页 |
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第79页 |