| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第13-35页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 半导体光催化原理 | 第13-15页 |
| 1.3 光催化活性影响因素 | 第15-18页 |
| 1.3.1 半导体能带位置的影响 | 第15页 |
| 1.3.2 催化剂晶体结构的影响 | 第15-16页 |
| 1.3.3 催化剂用量和吸附能力的影响 | 第16页 |
| 1.3.4 污染物浓度和性质的影响 | 第16页 |
| 1.3.5 反应体系pH值的影响 | 第16-17页 |
| 1.3.6 体系氧气浓度的影响 | 第17页 |
| 1.3.7 光源波长和光强的影响 | 第17-18页 |
| 1.3.8 反应温度的影响 | 第18页 |
| 1.4 新型可见光响应窄带隙半导体g-C_3N_4 | 第18-20页 |
| 1.4.1 g-C_3N_4化学结构 | 第19页 |
| 1.4.2 g-C_3N_4能带结构 | 第19-20页 |
| 1.5 g-C_3N_4半导体光催化剂研究现状 | 第20-31页 |
| 1.5.1 g-C_3N_4半导体光催化剂理论研究 | 第21-22页 |
| 1.5.2 g-C_3N_4半导体光催化剂形貌结构控制研究 | 第22-24页 |
| 1.5.3 g-C_3N_4半导体光催化剂能带结构控制研究 | 第24-31页 |
| 1.6 g-C_3N_4半导体光催剂制备方法 | 第31-33页 |
| 1.6.1 固相反应法 | 第31-32页 |
| 1.6.2 电化学沉积法 | 第32-33页 |
| 1.6.3 溶剂热法 | 第33页 |
| 1.7 课题的提出与依据 | 第33-35页 |
| 第二章 研究方案 | 第35-43页 |
| 2.1 实验试剂 | 第35页 |
| 2.2 实验设计 | 第35-37页 |
| 2.2.1 g-C_3N_4超声处理实验设计思路 | 第36页 |
| 2.2.2 多孔g-C_3N_4制备实验设计思路 | 第36页 |
| 2.2.3 g-C_3N_4/AgBr复合材料制备实验设计思路 | 第36-37页 |
| 2.3 测试表征方法 | 第37-43页 |
| 2.3.1 粒径分析 | 第37页 |
| 2.3.2 X射线衍射分析 | 第37页 |
| 2.3.3 傅里叶变换红外吸收光谱测试 | 第37页 |
| 2.3.4 Zeta电位测试 | 第37-38页 |
| 2.3.5 扫描电镜分析 | 第38页 |
| 2.3.6 透射电镜分析 | 第38页 |
| 2.3.7 比表面积测试 | 第38页 |
| 2.3.8 热重分析 | 第38页 |
| 2.3.9 紫外-可见漫反射光谱测试 | 第38-39页 |
| 2.3.10 紫外-可见吸收光谱测试 | 第39页 |
| 2.3.11 荧光发射光谱测试 | 第39页 |
| 2.3.12 光电化学测试 | 第39-40页 |
| 2.3.13 电子顺磁共振测试 | 第40页 |
| 2.3.14 吸附性能测试 | 第40-41页 |
| 2.3.15 光催化性能测试 | 第41-42页 |
| 2.3.16 活性基团检测 | 第42页 |
| 2.3.17 ?OH荧光捕获测试 | 第42-43页 |
| 第三章 超声处理对g-C_3N_4结构形貌及性能的影响 | 第43-51页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 样品制备 | 第43页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第43-50页 |
| 3.3.1 粒径分析 | 第43-44页 |
| 3.3.2 结构形貌分析 | 第44-46页 |
| 3.3.3 紫外-可见漫反射光谱分析 | 第46-47页 |
| 3.3.4 光催化性能及机理分析 | 第47-50页 |
| 3.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 无模板法制备多孔g-C_3N_4及其可见光催化性能 | 第51-63页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 样品制备 | 第51-52页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第52-61页 |
| 4.3.1 结构形貌分析 | 第52-55页 |
| 4.3.2 比表面积分析 | 第55页 |
| 4.3.3 热稳定性分析 | 第55-56页 |
| 4.3.4 紫外-可见漫反射光谱分析 | 第56-57页 |
| 4.3.5 光电特性分析 | 第57-58页 |
| 4.3.6 光催化性能及机理分析 | 第58-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 g-C_3N_4/AgBr复合光催化材料制备及其可见光催化性能 | 第63-79页 |
| 5.1 引言 | 第63页 |
| 5.2 样品制备 | 第63-64页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第64-77页 |
| 5.3.1 结构形貌分析 | 第64-66页 |
| 5.3.2 比表面积分析 | 第66-68页 |
| 5.3.3 光谱学分析 | 第68-69页 |
| 5.3.4 光电特性分析 | 第69-71页 |
| 5.3.5 半导体类型及载流子浓度分析 | 第71页 |
| 5.3.6 光催化性能及机理分析 | 第71-77页 |
| 5.4 本章小结 | 第77-79页 |
| 第六章 全文总结 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-91页 |
| 致谢 | 第91-93页 |
| 个人简历 | 第93-95页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第95-96页 |
