| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 纳米多孔金属 | 第11-14页 |
| 1.1.1 纳米的定义 | 第11页 |
| 1.1.2 多孔材料 | 第11-12页 |
| 1.1.3 纳米多孔金属简史 | 第12-13页 |
| 1.1.4 脱合金机理发展 | 第13-14页 |
| 1.2 纳米多孔金属应用 | 第14-17页 |
| 1.2.1 催化 | 第14页 |
| 1.2.2 电催化 | 第14-15页 |
| 1.2.3 力学性能 | 第15页 |
| 1.2.4 光学性能 | 第15-16页 |
| 1.2.5 传感与驱动 | 第16页 |
| 1.2.6 电、热、磁性 | 第16-17页 |
| 1.3 纳米多孔铜 | 第17-21页 |
| 1.3.1 前驱体 | 第17-19页 |
| 1.3.2 腐蚀因素 | 第19-20页 |
| 1.3.3 腐蚀产物 | 第20页 |
| 1.3.4 应用 | 第20-21页 |
| 1.4 选题思路、研究内容与意义 | 第21-23页 |
| 第二章 实验方案设计与研究方法 | 第23-27页 |
| 2.1 原料 | 第23页 |
| 2.2 实验设备 | 第23-25页 |
| 2.2.1 小型仪器 | 第23页 |
| 2.2.2 大型仪器 | 第23-25页 |
| 2.3 测试表征 | 第25-26页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜（SEM） | 第25页 |
| 2.3.2 高分辨透射电子显微镜（HRTEM） | 第25页 |
| 2.3.3 X-射线衍射仪（XRD） | 第25页 |
| 2.3.4 比表面积/孔径分析仪 | 第25-26页 |
| 2.3.5 电化学工作站 | 第26页 |
| 2.4 实验工艺流程 | 第26-27页 |
| 第三章 纳米多孔铜/铜氧化物制备 | 第27-49页 |
| 3.1 Al-Cu合金的脱合金 | 第27-32页 |
| 3.2 Al_(67)Cu_(33)合金的制备及其脱合金 | 第32-37页 |
| 3.3 Al_(85)Cu_(15)制备及其脱合金 | 第37-41页 |
| 3.4 前驱体与产物之间结构遗传 | 第41-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 铜氧化物形成机理 | 第49-73页 |
| 4.1 前言 | 第49页 |
| 4.2 热稳定性分析 | 第49-51页 |
| 4.3 电化学分析 | 第51-54页 |
| 4.3.1 电化学基本概念 | 第51页 |
| 4.3.2 电化学测试结果 | 第51-54页 |
| 4.4 结构模拟与计算 | 第54-70页 |
| 4.4.1 烧结合金结构精修 | 第55-56页 |
| 4.4.2 烧结过程模拟 | 第56-64页 |
| 4.4.3 Cu团簇吸附计算 | 第64-70页 |
| 4.5 本章小结 | 第70-73页 |
| 第五章 纳米多孔铜/铜氧化物超声降解甲基橙的应用 | 第73-77页 |
| 第六章 结论与展望 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-93页 |
| 致谢 | 第93-95页 |
| 附录 | 第95页 |