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新型SiC沟槽IGBT的模拟研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
符号对照表第12-15页
缩略语对照表第15-19页
第一章 绪论第19-23页
    1.1 碳化硅材料特性第19-20页
    1.2 碳化硅IGBT的应用及研究现状第20-22页
    1.3 本论文的主要工作第22-23页
第二章 SiC TIGBT的工作原理及仿真参数第23-43页
    2.1 SiC TIGBT的结构和工作原理第23-31页
        2.1.1 SiC TIGBT的结构第23-27页
        2.1.2 SiC TIGBT的工作原理第27-30页
        2.1.3 TIGBT器件等效电路第30-31页
    2.2 4H-SiC TIGBT关键电学参数第31-35页
        2.2.1 阈值电压第31-32页
        2.2.2 饱和导通压降第32-34页
        2.2.3 关断损耗第34-35页
    2.3 4H-SiC TIGBT器件仿真的模型参数第35-40页
        2.3.1 本征载流子和能带模型第35-36页
        2.3.2 迁移率模型第36-38页
        2.3.3 杂质不完全离化模型第38-39页
        2.3.4 载流子复合-产生模型第39-40页
    2.4 本章小结第40-43页
第三章 4H-SiC TIGBT特性的模拟研究第43-59页
    3.1 4H-SiC TIGBT器件结构和参数第43-44页
    3.2 4H-SiC TIGBT的基本特性的模拟仿真第44-45页
        3.2.1 4H-SiC TIGBT的转移特性第44页
        3.2.2 4H-SiC TIGBT的输出特性曲线第44-45页
    3.3 4H-SiC TIGBT的开关特性模拟和功耗研究第45-47页
    3.4 4H-SiC TIGBT结构参数对载流子分布的影响第47-58页
        3.4.1 不同发射极宽度的研究第48-50页
        3.4.2 不同沟槽深度的研究第50-53页
        3.4.3 发射极宽度与沟槽深度同时变化的研究第53-58页
    3.5 本章小结第58-59页
第四章 4H-SiC TPIGBT的模拟研究第59-67页
    4.1 4H-SiC TPIGBT的基本结构第59-61页
    4.2 4H-SiC IGBT三种结构的特性比较第61-65页
        4.2.1 转移特性第61-62页
        4.2.2 漂移区中电子浓度对正向导通压降和关断损耗的影响第62-65页
    4.3 本章小结第65-67页
第五章 总结与展望第67-71页
参考文献第71-75页
致谢第75-77页
作者简介第77-78页

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