Al/CuPc/Cu肖特基二极管气敏特性分析
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| ·课题的研究意义及背景 | 第10页 |
| ·有机半导体材料 | 第10-11页 |
| ·MPc 材料敏感特性概述 | 第11-13页 |
| ·酞菁薄膜传感器的研究成果 | 第13-15页 |
| ·肖特基二极管传感器 | 第15页 |
| ·本文主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 金属与半导体接触及酞菁气敏机理 | 第17-24页 |
| ·金属与半导体接触 | 第17-21页 |
| ·肖特基接触 | 第17-19页 |
| ·欧姆接触 | 第19-20页 |
| ·中性接触 | 第20-21页 |
| ·气敏特性机理及影响因素 | 第21-23页 |
| ·酞菁气敏机理探讨 | 第21-22页 |
| ·酞菁配合物气敏特性的影响因素 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 肖特基气敏二极管的制备 | 第24-31页 |
| ·器件制备工艺 | 第24-26页 |
| ·真空镀膜 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第25-26页 |
| ·基片的清洗 | 第26-27页 |
| ·器件的制备过程 | 第27-30页 |
| ·电极的制备 | 第28-29页 |
| ·有机层的制备 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第4章 有机肖特基二极管气敏特性的测试与分析 | 第31-41页 |
| ·敏感特性测量系统 | 第31-32页 |
| ·测量系统 | 第31页 |
| ·实验方法 | 第31-32页 |
| ·实验测试结果 | 第32-36页 |
| ·空气中器件的测试结果 | 第32-33页 |
| ·N02 气体中器件的测试结果 | 第33-35页 |
| ·器件的恢复 | 第35-36页 |
| ·CuPc 薄膜传感器的气敏机理分析 | 第36-39页 |
| ·基本原理分析 | 第36-37页 |
| ·器件气敏特性能带变化分析 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 结论 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-46页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47页 |
