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硅基MEMS压电式振动能量采集器设计制造及其性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 绪论第10-24页
   ·论文研究的背景及意义第10-11页
   ·振动能量采集器概述第11-22页
     ·振动能量采集器的类型及特点第11-14页
     ·振动能量采集器国内外研究进展第14-22页
   ·本论文主要研究内容第22-24页
第二章 硅基 MEMS 压电式振动能量采集器工作原理第24-33页
   ·压电效应与压电材料第24-27页
   ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器工作模式第27-29页
   ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器动力学振动模型第29-32页
   ·本章小结第32-33页
第三章 硅基 MEMS 压电式振动能量采集器结构设计与仿真分析第33-47页
   ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器整体结构设计第33-35页
   ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器结构尺寸参数设计第35-37页
   ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器结构仿真分析第37-46页
     ·静力学仿真分析第38-41页
     ·模态仿真分析第41-44页
     ·谐响应仿真分析第44-46页
   ·本章小结第46-47页
第四章 硅基 MEMS 压电式振动能量采集器加工制造第47-80页
   ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器基础结构加工工艺设计第47-49页
   ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器基础结构光刻掩膜版图设计第49-53页
   ·硅基 PZT 压电功能厚膜异质集成制造研究第53-59页
     ·PZT 压电功能膜的主要制备方法第53-54页
     ·Sol-Gel 法制备 PZT 压电功能材料厚膜层第54-58页
     ·PZT 压电功能材料厚膜性能研究第58-59页
   ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器基础结构制造工艺技术研究第59-79页
     ·PZT 压电厚膜层湿法腐蚀工艺第60-64页
     ·下电极 Pt/Ti 层图形化刻蚀工艺第64-67页
     ·上电极 Au/Ti 层加工制作工艺第67-69页
     ·Si3N4绝缘层沉积及图形化加工工艺第69-72页
     ·上电极焊盘点引线层制作工艺第72-73页
     ·正面刻蚀加工工艺第73-76页
     ·反面刻蚀加工工艺第76-78页
     ·微结构释放工艺第78-79页
   ·本章小结第79-80页
第五章 硅基 MEMS 压电式振动能量采集器封装及性能测试第80-90页
   ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器封装第80-82页
   ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器输出性能测试第82-88页
     ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器扫频测试第82-84页
     ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器定频测试第84-86页
     ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器输出功率测试第86-88页
     ·硅基 MEMS 压电式振动能量采集器输出性能测试分析第88页
   ·本章小结第88-90页
第六章 结论与展望第90-94页
   ·主要研究内容及结论第90-92页
   ·主要创新点第92页
   ·未来工作展望第92-94页
参考文献第94-101页
攻读硕士学位期间所取得的研究成果第101-102页
致谢第102-104页

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