GaN基上制备TiO2薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| ·介质薄膜材料 | 第8-12页 |
| ·介质薄膜的电学性质 | 第9-11页 |
| ·氧化物介质薄膜的应用 | 第11-12页 |
| ·TiO_2结构特征 | 第12-14页 |
| ·TiO_2薄膜的性能及其应用 | 第14-17页 |
| ·TiO_2薄膜的特性 | 第14-15页 |
| ·TiO_2薄膜的应用 | 第15-17页 |
| ·GaN 薄膜器件 | 第17-18页 |
| ·本文研究的意义及目的 | 第18-20页 |
| 第2章 TiO_2薄膜的制备及其表征方法 | 第20-31页 |
| ·TiO_2薄膜的制备方法 | 第20-24页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第20-21页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第21-22页 |
| ·分子束外延 | 第22页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第22-24页 |
| ·TiO_2薄膜的表征方法 | 第24-31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第24-25页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第25-27页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第27-29页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第29-31页 |
| 第3章 GaN 基上 TiO_2薄膜的制备 | 第31-34页 |
| ·GaN 基底的处理 | 第31页 |
| ·TiO_2薄膜样品的制备 | 第31-33页 |
| ·TiO_2薄膜的表征及性能测试 | 第33-34页 |
| 第4章 实验结果与讨论 | 第34-43页 |
| ·基底温度对 TiO_2薄膜生长的影响 | 第34-36页 |
| ·基底温度对薄膜结构的影响 | 第34-35页 |
| ·基底温度对薄膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
| ·氧压对 TiO_2薄膜生长的影响 | 第36-41页 |
| ·氧压对薄膜结构的影响 | 第36-38页 |
| ·氧压对薄膜表面形貌的影响 | 第38-39页 |
| ·氧压对薄膜微观结构的影响 | 第39-41页 |
| ·TiO_2/GaN 外延关系分析 | 第41-43页 |
| 第5章 总结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文和参加的科研项目 | 第48页 |
