| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| ·微机电系统概述 | 第11-15页 |
| ·微/纳机电系统简介 | 第11-12页 |
| ·微机电系统(MEMS)材料 | 第12页 |
| ·MEMS加工技术 | 第12-14页 |
| ·微/纳机电系统的应用与研究进展 | 第14-15页 |
| ·硅微通道结构概述 | 第15-21页 |
| ·硅微通道板(Si-MCP)基本结构及制备工艺 | 第15-17页 |
| ·硅微通道板的形成机理 | 第17-18页 |
| ·微通道板的实际应用 | 第18-20页 |
| ·硅基微通道内表面修饰 | 第20-21页 |
| ·电化学传感器概述 | 第21-24页 |
| ·电化学传感器简介 | 第21-23页 |
| ·电化学传感器的研究现状及发展前景 | 第23页 |
| ·硅基微通道应用于三维电化学传感器 | 第23-24页 |
| ·本论文的研究内容 | 第24-25页 |
| ·本论文的研究意义 | 第25-26页 |
| 第二章 实验方法及原理介绍 | 第26-38页 |
| ·化学镀镍 | 第26-29页 |
| ·化学镀镍原理 | 第26-27页 |
| ·在硅微通道上化学镀镍 | 第27-29页 |
| ·电镀镍、钯方法概述 | 第29-34页 |
| ·电镀概述 | 第29-30页 |
| ·电镀原理 | 第30页 |
| ·在硅微通道上电镀镍 | 第30-32页 |
| ·在镍/硅基微通道板上电镀钯 | 第32-34页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第34-37页 |
| ·溶胶-凝胶法简介 | 第34-35页 |
| ·溶胶-凝胶法原理 | 第35-36页 |
| ·溶胶-凝胶技术存在的问题与发展方向 | 第36-37页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZnO溶胶的优势 | 第37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 基于钯/镍/硅基微通道电极的双氧水传感器 | 第38-54页 |
| ·双氧水传感器概述 | 第38-40页 |
| ·双氧水传感器研究现状 | 第38-39页 |
| ·硅基微通道板在双氧水电化学传感器中的作用 | 第39-40页 |
| ·镀镍实验结果讨论 | 第40-43页 |
| ·影响化学镀镍的因素 | 第40页 |
| ·电镀镍与化学镀镍工艺的对比 | 第40-41页 |
| ·镀镍后硅微通道表面形貌特性 | 第41-43页 |
| ·钯/镍/硅基微通道板电极表征 | 第43-45页 |
| ·实验所需仪器设备 | 第43页 |
| ·钯/镍/硅基微通道板电极的表面形貌特性 | 第43-45页 |
| ·基于钯/镍/硅基微通道板电极的双氧水传感器性能分析 | 第45-51页 |
| ·传感器对双氧水的电催化氧化性能 | 第45-49页 |
| ·基于钯/镍/硅基微通道板电极双氧水传感器的灵敏度和线性度 | 第49-50页 |
| ·基于钯/镍/硅基微通道板电极双氧水传感器的稳定性、重复性 | 第50-51页 |
| ·实验条件对基于钯/镍/硅基微通道电极的双氧水传感器的影响 | 第51-52页 |
| ·环境温度对电极性能的影响 | 第51-52页 |
| ·检测介质PH值对电极性能的影响 | 第52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 ZnO系半导体气敏器件 | 第54-71页 |
| ·气敏器件 | 第54-55页 |
| ·气敏器件研究进展 | 第54页 |
| ·用硅微通道制备ZnO系气敏器件的优势 | 第54-55页 |
| ·ZnO系气敏器件的制备 | 第55-63页 |
| ·氧化锌薄膜的制备 | 第55-57页 |
| ·浸涂方式对硅微通道内壁均匀成膜性能的影响 | 第57-59页 |
| ·溶胶浓度对硅微通道内壁均匀成膜性能的影响 | 第59-60页 |
| ·热处理制度对硅微通道内壁均匀成膜性能的影响 | 第60-63页 |
| ·实验方法改进 | 第63-69页 |
| ·以醋酸锌为原料制备氧化锌溶胶薄膜 | 第63页 |
| ·过氧化氢的加入对硅微通道内氧化锌溶胶均匀成膜的影响 | 第63-64页 |
| ·过氧化氢浓度对氧化锌薄膜性质的影响 | 第64-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第五章 总结与展望 | 第71-73页 |
| ·结论 | 第71页 |
| ·应用与展望 | 第71-73页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及专利目录 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
