| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 1 序言 | 第10-45页 |
| ·碳纳米管的发现 | 第12-13页 |
| ·碳纳米管的结构和分类 | 第13-15页 |
| ·碳纳米管的制备方法 | 第15-19页 |
| ·电弧放电法 | 第15-16页 |
| ·激光蒸发法 | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积法 | 第17-19页 |
| ·碳纳米管的填充 | 第19-34页 |
| ·碳纳米管的毛细管作用填充 | 第22-27页 |
| ·碳纳米管的原位填充 | 第27-31页 |
| ·其它填充方法 | 第31-33页 |
| ·碳纳米管填充技术应用及其展望 | 第33-34页 |
| ·选题意义及研究内容 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-45页 |
| 2 煤基碳纳米管的结构选择制备研究 | 第45-75页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·实验方法 | 第46-48页 |
| ·煤基双壁碳纳米管的制备 | 第46-47页 |
| ·煤基多壁碳纳米管及分枝碳纳米管的制备 | 第47-48页 |
| ·煤基双壁碳纳米管 | 第48-54页 |
| ·双壁碳纳米管的表征 | 第49-52页 |
| ·碳源前驱体对双壁碳纳米管生长的影响 | 第52-53页 |
| ·催化剂对双壁碳纳米管生长的影响 | 第53-54页 |
| ·煤基多壁碳纳米管 | 第54-59页 |
| ·多壁碳纳米管的表征 | 第54-58页 |
| ·催化剂对多壁碳纳米管生长的影响 | 第58页 |
| ·碳源前躯体对多壁碳纳米管生长的影响 | 第58-59页 |
| ·煤基分枝碳纳米管 | 第59-68页 |
| ·分枝碳纳米管的表征 | 第60-63页 |
| ·缓冲气体对分枝碳纳米管生长的影响 | 第63-64页 |
| ·催化剂对分枝碳纳米管生长的影响 | 第64-66页 |
| ·碳源前躯体对分枝碳纳米管生长的影响 | 第66-68页 |
| ·小结 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 3 基于碳纳米管的一维纳米电缆复合结构 | 第75-102页 |
| ·引言 | 第75-76页 |
| ·实验方法 | 第76-77页 |
| ·Cu@CNT纳米电缆 | 第77-84页 |
| ·Cu@CNT纳米电缆的表征 | 第77-80页 |
| ·铜催化剂对Cu@CNT纳米电缆生长的影响 | 第80-83页 |
| ·缓冲气体对Cu@CNT纳米电缆生长的影响 | 第83-84页 |
| ·碳源对Cu@CNT纳米电缆生长的影响 | 第84页 |
| ·LnF_3@CNT纳米电缆 | 第84-98页 |
| ·LnF_3@CNT纳米电缆的表征 | 第85-92页 |
| ·稀土化合物自身的性质对其在碳纳米管内填充的影响 | 第92-94页 |
| ·碳源对LnF_3@CNT纳米电缆生长的影响 | 第94-95页 |
| ·缓冲气体对LnF_3@CNT纳米电缆生长的影响 | 第95页 |
| ·催化剂对LnF_3@CNT纳米电缆生长的影响 | 第95-98页 |
| ·小结 | 第98-100页 |
| 参考文献 | 第100-102页 |
| 4 Cu@C纳米电缆的低温液相制备研究 | 第102-120页 |
| ·引言 | 第102页 |
| ·实验方法 | 第102-103页 |
| ·Cu@C纳米电缆的表征 | 第103-105页 |
| ·pH值对Cu@C纳米电缆生长的影响 | 第105页 |
| ·反应温度对Cu@C纳米电缆生长的影响 | 第105-107页 |
| ·表面活性剂对Cu@C纳米电缆生长的影响 | 第107-108页 |
| ·六亚甲基四胺对Cu@C纳米电缆生长的影响 | 第108页 |
| ·Cu@C纳米电缆的可能生长机理 | 第108-110页 |
| ·Ag@C纳米电缆结构的制备 | 第110-112页 |
| ·低温水热法与电弧放电法在制备一维碳包覆纳米材料上的比较 | 第112-114页 |
| ·氧化铜微米球的制备 | 第114-119页 |
| ·小结 | 第119-120页 |
| 参考文献 | 第120-122页 |
| 结论与展望 | 第122-124页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第124-126页 |
| 创新点摘要 | 第126-127页 |
| 致谢 | 第127-128页 |