准相位匹配光倍频器的研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·准相位匹配光变频器的应用及前景 | 第10-13页 |
| ·我国准相位匹配光变频器发展现状与前景 | 第13-14页 |
| ·论文主要工作 | 第14-15页 |
| 第二章 准相位匹配技术 | 第15-23页 |
| ·三波互作用中的相位匹配理论 | 第15-18页 |
| ·非线性波动方程的产生 | 第15-17页 |
| ·耦合波方程 | 第17-18页 |
| ·准相位匹配介绍及原理 | 第18-21页 |
| ·准相位匹配倍频转换效率 | 第21-23页 |
| 第三章 两种高压电源的研制 | 第23-34页 |
| ·研制新型电源的意义 | 第23-25页 |
| ·矫顽场电压 | 第23-24页 |
| ·电源研制意义 | 第24-25页 |
| ·三角波高压电路设计 | 第25-30页 |
| ·参数设定 | 第25-26页 |
| ·电路原理分析 | 第26-29页 |
| ·实验结果 | 第29-30页 |
| ·高压极化电源 | 第30-34页 |
| ·极化反转对电源的要求 | 第30-31页 |
| ·电源制作 | 第31-33页 |
| ·实验结果 | 第33-34页 |
| 第四章 准相位匹配KTP 器件的研制 | 第34-44页 |
| ·关于KTP 晶体 | 第34-38页 |
| ·KTP 晶体的主要性质 | 第34-37页 |
| ·KTP 晶体的生长技术 | 第37-38页 |
| ·掩模板设计 | 第38-40页 |
| ·周期的计算 | 第38-39页 |
| ·掩模板加工 | 第39-40页 |
| ·光刻加工 | 第40-41页 |
| ·电极选择 | 第40页 |
| ·光刻的工艺流程 | 第40-41页 |
| ·外加电场极化 | 第41-44页 |
| ·外加电场周期极化机理 | 第41-43页 |
| ·极化反转过程 | 第43页 |
| ·实验结果 | 第43-44页 |
| 第五章 PPKTP 晶体检测与质量评估 | 第44-57页 |
| ·畴结构分析 | 第44-46页 |
| ·光刻时畴面选择 | 第44-45页 |
| ·电场中畴的生长 | 第45页 |
| ·电畴的观测 | 第45-46页 |
| ·1mm 厚铷交换KTP 晶体的研究 | 第46-54页 |
| ·晶体的预处理 | 第46-47页 |
| ·高压极化分析 | 第47-48页 |
| ·三角波脉冲检测 | 第48-49页 |
| ·倍频结果 | 第49-50页 |
| ·畴结构观察 | 第50-54页 |
| ·KTP 晶体的其它实验研究 | 第54-57页 |
| ·大于1mm 厚的KTP 晶体 | 第54-55页 |
| ·双脉冲电场对KTP 晶体的影响 | 第55-57页 |
| 第六章 PPRTP 晶体的研制 | 第57-65页 |
| ·关于RTP 晶体 | 第57-61页 |
| ·RTP 晶体的生长技术 | 第57-58页 |
| ·RTP 晶体的主要性质 | 第58-59页 |
| ·RTP 晶体的铁电性质 | 第59-61页 |
| ·PPRTP 制备和倍频通光 | 第61-65页 |
| ·光栅电极周期的计算 | 第61-62页 |
| ·外加电场极化 | 第62-63页 |
| ·倍频实验 | 第63-65页 |
| 全文总结与展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-74页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
