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脉冲激光沉积法生长硅基ZnO及特性研究

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
第一章 绪论第9-29页
   ·ZnO 薄膜的研究现状第9-13页
   ·ZnO 的性质第13-16页
   ·ZnO 薄膜的应用第16-20页
   ·ZnO 薄膜的制备技术第20-26页
   ·选题依据第26-29页
第二章 实验设备与测试表征技术第29-33页
   ·实验设备第29-30页
   ·实验中所需要的主要材料和试剂第30-31页
   ·样品的测试和表征第31-33页
第三章 PLD 方法生长ZnO 薄膜第33-55页
   ·样品的制备第33页
   ·衬底温度对ZnO 薄膜的影响第33-44页
   ·氧分压对ZnO 薄膜的影响第44-51页
   ·在不同衬底上生长ZnO 薄膜第51-54页
   ·结论第54-55页
第四章 退火温度对ZnO 薄膜的影响第55-61页
   ·样品的制备第55页
   ·结果与讨论第55-60页
   ·结论第60-61页
第五章 结论第61-63页
   ·本文的主要研究结果第61-62页
   ·对今后工作的建议第62-63页
参考文献第63-75页
攻读硕士学位期间发表的论文第75-79页
致谢第79页

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