镁合金微弧氧化微区放电机理研究
| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 插图索引 | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| ·研究目的和意义 | 第13-16页 |
| ·镁及镁合金 | 第13页 |
| ·镁合金的耐蚀性 | 第13-14页 |
| ·提高镁合金耐蚀性的方法 | 第14-16页 |
| ·微弧氧化技术的特点 | 第16页 |
| ·微弧氧化技术的研究现状 | 第16-20页 |
| ·国外研究现状 | 第16-17页 |
| ·国内研究现状 | 第17-20页 |
| ·关于微弧氧化机理的研究 | 第20-22页 |
| ·本课题的研究目标 | 第22页 |
| ·研究内容及技术路线 | 第22-25页 |
| ·研究内容 | 第22-23页 |
| ·技术路线 | 第23-25页 |
| 第二章 实验装置及方法 | 第25-34页 |
| ·实验材料 | 第25-26页 |
| ·试样的制取 | 第26页 |
| ·实验装置 | 第26-28页 |
| ·实验方案 | 第28-34页 |
| ·前处理 | 第29页 |
| ·预处理 | 第29-30页 |
| ·电解液配制 | 第30页 |
| ·微弧氧化处理过程 | 第30-32页 |
| ·测试与分析方法 | 第32-34页 |
| 第三章 镁合金微弧氧化微区放电机理研究 | 第34-50页 |
| ·膜层生长速度 | 第34-35页 |
| ·膜层表面形貌 | 第35-36页 |
| ·膜层组织分析 | 第36-37页 |
| ·膜层成分分析 | 第37-39页 |
| ·镁合金微弧氧化成膜过程及生长机理 | 第39-44页 |
| ·气体放电理论 | 第39-40页 |
| ·膜层生长过程分析 | 第40-43页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层形成机理 | 第43-44页 |
| ·镁合金微弧氧化微区电弧放电模型 | 第44-47页 |
| ·微区电弧放电模型 | 第44-45页 |
| ·几点重要推论 | 第45-47页 |
| ·镁合金微弧氧化成膜条件 | 第47-49页 |
| ·电解液 | 第47-48页 |
| ·初始膜层 | 第48页 |
| ·导电通道 | 第48页 |
| ·电源及电参数 | 第48页 |
| ·溶液冷却系统 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 镁合金微弧氧化对电源的要求 | 第50-58页 |
| ·直流和单极性脉冲电源 | 第50-53页 |
| ·直流电压形式 | 第50-51页 |
| ·单极性脉冲形式 | 第51-53页 |
| ·双极性脉冲电源 | 第53-55页 |
| ·双极性脉冲电压方式 | 第53-54页 |
| ·负电压的作用 | 第54-55页 |
| ·带放电回路脉冲电源 | 第55-57页 |
| ·电源结构及原理 | 第55页 |
| ·膜层生长速度的比较 | 第55-56页 |
| ·膜层表面形貌的比较 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 脉冲宽度对镁合金微弧氧化的影响 | 第58-65页 |
| ·脉冲宽度对起弧电压的影响 | 第59页 |
| ·脉冲宽度对成膜速率的影响 | 第59-61页 |
| ·不同脉宽下的电弧形态 | 第59-60页 |
| ·不同脉宽下膜层的成膜速率 | 第60-61页 |
| ·脉冲宽度对膜层表面形貌的影响 | 第61-63页 |
| ·脉冲宽度膜层耐蚀性的影响 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 过电压对镁合金微弧氧化的影响 | 第65-71页 |
| ·不同过电压下放电火花的形态 | 第65-66页 |
| ·过电压对膜层厚度的影响 | 第66-68页 |
| ·不同过电压下的膜层厚度 | 第66-67页 |
| ·过电压与膜层厚度关系分析 | 第67-68页 |
| ·过电压对膜层形貌的影响 | 第68-69页 |
| ·过电压对膜层耐蚀性的影响 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 后续工作建议 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第78页 |
