镁合金微弧氧化中局部烧蚀现象及其解决方案研究
| 目录 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-34页 |
| ·镁合金特点及应用现状 | 第11-13页 |
| ·镁及其合金特点 | 第11页 |
| ·镁合金应用现状 | 第11-13页 |
| ·镁合金表面处理原因及表面处理现状 | 第13-16页 |
| ·表面处理原因及常用方法 | 第13页 |
| ·表面处理方法及研究现状 | 第13-16页 |
| ·微弧氧化技术发展及研究现状 | 第16-31页 |
| ·研究概况 | 第16-17页 |
| ·目前已有微弧氧化工艺简介 | 第17-18页 |
| ·微弧氧化膜层制备方法 | 第18-20页 |
| ·影响陶瓷膜制备的因素 | 第20-29页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的微观结构、相组成和耐蚀性能 | 第29-31页 |
| ·论文选题依据 | 第31-33页 |
| ·微弧氧化处理的优点及在工业生产中存在的问题 | 第31-33页 |
| ·课题研究内容 | 第33-34页 |
| 第2章 实验设备及实验方法 | 第34-42页 |
| ·实验材料 | 第34页 |
| ·试样的制取 | 第34页 |
| ·实验设备 | 第34-38页 |
| ·实验方案 | 第38-41页 |
| ·试样前处理 | 第38页 |
| ·试样预处理 | 第38-39页 |
| ·溶液配制 | 第39页 |
| ·微弧氧化处理过程 | 第39-41页 |
| ·试样测试与分析 | 第41-42页 |
| ·膜层厚度测试 | 第41页 |
| ·表面及截面形貌分析 | 第41页 |
| ·膜层成份及结构分析 | 第41页 |
| ·48h腐蚀率测试 | 第41页 |
| ·膜层粗糙度测试 | 第41-42页 |
| 第3章 镁合金微弧氧化局部烧蚀现象及工艺参数优化 | 第42-47页 |
| ·局部烧蚀现象描述 | 第42-43页 |
| ·工艺参数对局部烧蚀现象的影响及其参数优化 | 第43-46页 |
| ·工艺参数对局部烧蚀现象的影响及其参数优化 | 第43-45页 |
| ·电参数的影响 | 第45-46页 |
| ·其它因素的影响 | 第46页 |
| ·本章结论 | 第46-47页 |
| 第4章 镁合金微弧氧化成膜机制 | 第47-52页 |
| ·传统微弧氧化成膜机理 | 第47-50页 |
| ·镁合金微区电弧放电机理 | 第50-51页 |
| ·本章结论 | 第51-52页 |
| 第5章 解决局部烧蚀现象对电源的要求 | 第52-63页 |
| ·实验系统 | 第52-53页 |
| ·不同电源方式比较 | 第53-57页 |
| ·直流电压方式 | 第53页 |
| ·单极性脉冲方式 | 第53-55页 |
| ·双极性脉冲方式 | 第55-56页 |
| ·带放电回路的脉冲电源 | 第56-57页 |
| ·不同电源方式下膜层的性能比较 | 第57-62页 |
| ·膜层厚度 | 第57-58页 |
| ·负电压的作用 | 第58页 |
| ·膜层表面粗糙度 | 第58-60页 |
| ·膜层表面SEM | 第60-62页 |
| ·本章结论 | 第62-63页 |
| 第6章 镁合金微弧氧化过程中的强制熄弧与自然熄弧 | 第63-72页 |
| ·试验材料与方法 | 第63-64页 |
| ·自然熄弧与强制熄弧现象比较 | 第64-65页 |
| ·自然熄弧与强制熄弧膜层性能比较 | 第65-69页 |
| ·膜层厚度 | 第65-66页 |
| ·膜层表观形貌 | 第66-69页 |
| ·膜层XRD分析 | 第69页 |
| ·自然熄弧与强制熄弧波形分析 | 第69-71页 |
| ·本章结论 | 第71-72页 |
| 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第80页 |
