| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-14页 |
| 第一章 引言 | 第14-18页 |
| 第二章 文献综述 | 第18-46页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第18-21页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第18-19页 |
| ·ZnO的基本物理性质 | 第19-20页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第20-21页 |
| ·ZnO的性能 | 第21-26页 |
| ·ZnO的光学性能 | 第21-25页 |
| ·ZnO的电学性能 | 第25-26页 |
| ·ZnO的本征缺陷与非故意掺杂 | 第26-28页 |
| ·ZnO基材料的p型掺杂 | 第28-31页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜 | 第31-42页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的研究进展 | 第32-37页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的应用 | 第37-40页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的制备技术 | 第40-42页 |
| ·本文的选题依据和研究内容 | 第42-46页 |
| ·In-N共掺实现p型ZnMgO及ZnMgO基同质p-n结的制作 | 第42页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜 | 第42-46页 |
| 第三章 实验原理、实验过程及性能评价手段 | 第46-60页 |
| ·磁控溅射技术 | 第46-52页 |
| ·磁控溅射原理 | 第46-49页 |
| ·实验原料及实验过程 | 第49-52页 |
| ·PLD技术 | 第52-57页 |
| ·PLD原理 | 第52-54页 |
| ·实验原料及实验过程 | 第54-57页 |
| ·衬底及其清洗方法 | 第57页 |
| ·性能评价手段 | 第57-60页 |
| 第四章 In-N共掺p型ZnMgO薄膜的制备及其性能研究 | 第60-72页 |
| ·N2O分压对薄膜性能的影响 | 第60-64页 |
| ·电学性能分析 | 第60-61页 |
| ·结构性能分析 | 第61-62页 |
| ·薄膜的组分与厚度 | 第62-63页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第63-64页 |
| ·Mg含量对薄膜性能的影响 | 第64-69页 |
| ·薄膜的成分分析 | 第65-66页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第66页 |
| ·薄膜的电学性能 | 第66-67页 |
| ·薄膜的结构性能 | 第67-68页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第68-69页 |
| ·ZnMgO同质p-n结的制备 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 AZO透明导电薄膜的制备及其性能研究 | 第72-82页 |
| ·AZO薄膜的XRD分析 | 第72-74页 |
| ·AZO薄膜的SEM表征 | 第74-76页 |
| ·AZO薄膜的XPS分析 | 第76-78页 |
| ·AZO薄膜的电学性能 | 第78-79页 |
| ·AZO薄膜的光学性能 | 第79-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 第六章 柔性衬底上制备GZO透明导电薄膜及其性能研究 | 第82-94页 |
| ·氧分压对GZO透明导电薄膜性能的影响 | 第83-85页 |
| ·溅射压强对GZO透明导电薄膜性能的影响 | 第85-91页 |
| ·薄膜的结构性能表征 | 第85-88页 |
| ·薄膜的电学性能表征 | 第88-89页 |
| ·薄膜的光学性能表征 | 第89-90页 |
| ·薄膜的附着力 | 第90-91页 |
| ·本章小结 | 第91-94页 |
| 第七章 缓冲层对柔性衬底上制备的GZO薄膜特性的影响 | 第94-106页 |
| ·正交试验设计方法 | 第95-97页 |
| ·正交试验设计 | 第95页 |
| ·正交表 | 第95-96页 |
| ·正交试验的操作方法 | 第96-97页 |
| ·正交试验结果分析方法 | 第97页 |
| ·正交设计在GZO/ZnO多层膜制备中的应用 | 第97-105页 |
| ·试验因素和水平的选取 | 第97-99页 |
| ·正交阵列的设定 | 第99页 |
| ·信噪比(S/N ratio)分析 | 第99-100页 |
| ·方差分析 | 第100-101页 |
| ·ZnO的生长参数对GZO/ZnO薄膜的光学性能的影响 | 第101-102页 |
| ·ZnO的生长参数对GZO/ZnO薄膜的电学性能的影响 | 第102-103页 |
| ·最优参数条件下生长的GZO/ZnO薄膜与GZO薄膜的性能对比研究 | 第103-105页 |
| ·本章小结 | 第105-106页 |
| 第八章 柔性衬底上制备GZO/Cu多层结构透明导电薄膜 | 第106-120页 |
| ·多层结构导电膜的导电机理 | 第107-109页 |
| ·多层结构导电膜的载流子 | 第107-108页 |
| ·多层结构导电膜的电子迁移 | 第108-109页 |
| ·金属Cu层厚度对GZO/Cu多层结构透明导电薄膜性能的影响 | 第109-113页 |
| ·GZO/Cu多层透明导电薄膜的结构性能 | 第109-110页 |
| ·GZO/Cu多层透明导电薄膜的电学性能 | 第110-111页 |
| ·GZO/Cu多层透明导电薄膜的光学性能 | 第111-112页 |
| ·GZO/Cu多层透明导电薄膜的性能指数 | 第112-113页 |
| ·GZO层厚度对GZO/Cu多层结构透明导电薄膜性能的影响 | 第113-117页 |
| ·GZO/Cu多层透明导电薄膜的结构性能 | 第113-114页 |
| ·GZO/Cu多层透明导电薄膜的电学性能 | 第114-116页 |
| ·GZO/Cu多层透明导电薄膜的光学性能 | 第116页 |
| ·GZO/Cu多层透明导电薄膜的性能指数 | 第116-117页 |
| ·本章小结 | 第117-120页 |
| 第九章 柔性衬底上制备GZO/Cu/GZO多层透明导电膜 | 第120-134页 |
| ·金属Cu层厚度对GZO/Cu/GzO多层透明导电膜性能的影响 | 第121-126页 |
| ·GZO/Cu/GZO多层透明导电膜的结构性能 | 第121-122页 |
| ·GZO/Cu/GZO多层透明导电膜的电学性能 | 第122-123页 |
| ·GZO/Cu/GZO多层透明导电膜的光学性能 | 第123-125页 |
| ·GZO/Cu/GZO多层透明导电膜的性能指数 | 第125-126页 |
| ·GZO层厚度对GZO/Cu/GZO多层透明导电膜性能的影响 | 第126-131页 |
| ·GZO/Cu/GZO多层透明导电膜的结构性能 | 第126-127页 |
| ·GZO/Cu/GZO多层透明导电膜的电学性能 | 第127-128页 |
| ·GZO/Cu/GZO多层透明导电膜的光学性能 | 第128-130页 |
| ·GZO/Cu/GZO多层透明导电膜的性能指数 | 第130-131页 |
| ·本章小结 | 第131-134页 |
| 第十章 总结与展望 | 第134-138页 |
| ·全文总结 | 第134-136页 |
| ·本文创新点 | 第136页 |
| ·展望 | 第136-138页 |
| 参考文献 | 第138-154页 |
| 致谢 | 第154-156页 |
| 个人简历 | 第156-158页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第158-159页 |
