| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| ·非硅基介孔材料的合成 | 第9-10页 |
| ·表面活性剂的组装合成 | 第9-10页 |
| ·非表面活性剂的组装合成 | 第10页 |
| ·直接组装和晶体模板合成 | 第10页 |
| ·非硅基介孔材料的合成机理 | 第10-11页 |
| ·介孔氧化锆的研究进展 | 第11-15页 |
| ·介孔氧化锆的合成 | 第11-12页 |
| ·水热合成体系 | 第12页 |
| ·非水合成体系 | 第12页 |
| ·介孔氧化锆的合成机理 | 第12-15页 |
| ·液晶模板机理 | 第12-14页 |
| ·构架机理 | 第14-15页 |
| ·其它机理 | 第15页 |
| ·论文的选题意义 | 第15-16页 |
| ·拟选用的实验方案 | 第16-18页 |
| ·十二烷基磺酸钠（SDS）为模板剂制备介孔氧化锆 | 第16-17页 |
| ·糖类小分子为模板剂制备介孔氧化锆 | 第17页 |
| ·聚乙烯吡咯烷酮K30（PVP）为模板剂制备介孔氧化锆 | 第17-18页 |
| 第2章 十二烷基磺酸钠（SDS）为模板剂制备介孔氧化锆 | 第18-34页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·实验部分 | 第18页 |
| ·主要试剂 | 第18页 |
| ·样品表征 | 第18页 |
| ·水热法制备介孔氧化锆 | 第18-26页 |
| ·介孔氧化锆前驱体的制备 | 第18-19页 |
| ·最佳条件下合成的介孔氧化锆前驱体 | 第19页 |
| ·煅烧温度的选择 | 第19-21页 |
| ·前驱体的后处理 | 第21-24页 |
| ·NaOH 浓度的影响 | 第21-22页 |
| ·NaOH 溶液处理时间的影响 | 第22-23页 |
| ·NaOH 溶液最佳处理后不同干燥方式的影响 | 第23-24页 |
| ·最佳后处理条件下制备的样品的表征 | 第24-26页 |
| ·沉淀法制备介孔氧化锆 | 第26-29页 |
| ·介孔氧化锆前驱体的制备 | 第26页 |
| ·最佳条件下合成的介孔氧化锆前驱体 | 第26页 |
| ·煅烧温度的选择 | 第26-28页 |
| ·最佳后处理条件下制备的样品的表征 | 第28-29页 |
| ·微波法制备介孔氧化锆 | 第29-33页 |
| ·介孔氧化锆前驱体的制备 | 第29-30页 |
| ·最佳条件下合成的介孔氧化锆前驱体 | 第30页 |
| ·煅烧温度的选择 | 第30-31页 |
| ·最佳后处理条件下制备的样品的表征 | 第31-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 第3章 糖类小分子为模板剂制备介孔氧化锆 | 第34-45页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验部分 | 第34页 |
| ·主要试剂 | 第34页 |
| ·样品表征 | 第34页 |
| ·葡萄糖为模板剂制备介孔氧化锆 | 第34-41页 |
| ·介孔氧化锆的制备 | 第34-35页 |
| ·煅烧温度的选择 | 第35-36页 |
| ·C_6H_(12)O_6 浓度的影响 | 第36-37页 |
| ·ZrOCl_2·8H_2O 浓度的影响 | 第37页 |
| ·NaOH 浓度的影响 | 第37-38页 |
| ·反应温度的影响 | 第38-39页 |
| ·反应时间的影响 | 第39-40页 |
| ·最佳条件下制备的样品的表征 | 第40-41页 |
| ·蔗糖为模板剂制备介孔氧化锆 | 第41-44页 |
| ·介孔氧化锆的制备 | 第41页 |
| ·煅烧温度的选择 | 第41-43页 |
| ·最佳条件下制备的样品的表征 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第4章 聚乙烯吡咯烷酮K30 为模板剂制备介孔氧化锆 | 第45-58页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·实验部分 | 第45页 |
| ·主要试剂 | 第45页 |
| ·样品表征 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-57页 |
| ·介孔氧化锆的制备 | 第45-46页 |
| ·煅烧温度的选择 | 第46页 |
| ·PVP 浓度的影响 | 第46-48页 |
| ·锆盐浓度的影响 | 第48-50页 |
| ·NaOH 浓度的影响 | 第50-52页 |
| ·反应温度的影响 | 第52-53页 |
| ·反应时间的影响 | 第53-55页 |
| ·最佳条件下制备的样品的表征 | 第55-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读学位期间取得的科研成果 | 第68页 |
