| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-33页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 有机光化学反应的发展 | 第8-21页 |
| 1.2.1 有机光化学反应的基本原理 | 第8-9页 |
| 1.2.2 紫外光反应 | 第9-17页 |
| 1.2.3 可见光化学反应 | 第17-21页 |
| 1.3 天然产物(+)-Licarin B 及其药理作用 | 第21-24页 |
| 1.3.1 (+)-Licarin B 以及新木脂烷化合物 | 第21-23页 |
| 1.3.2 (+)-Licarin B 的药理活性介绍 | 第23-24页 |
| 1.4 含有二氢苯并呋喃结构单元天然产物的合成 | 第24-33页 |
| 1.4.1 (+)-Licarin B 的全合成方法 | 第24页 |
| 1.4.2 含有二氢苯并呋喃结构的新烷木质素的合成方法 | 第24-30页 |
| 1.4.3 有机光化学方法在 2,3-苯并二氢呋喃化合物合成中应用的探索 | 第30-33页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第33-38页 |
| 2.1 实验试剂 | 第33-34页 |
| 2.2 实验所需仪器 | 第34页 |
| 2.3 常用试剂的纯化以及制备 | 第34-35页 |
| 2.4 实验方法与表征手段 | 第35-38页 |
| 2.4.1 目标产物的逆合成分析 | 第35-37页 |
| 2.4.2 化合物结构表征的方法 | 第37-38页 |
| 第3章 基于硅保护法的合成路线 | 第38-56页 |
| 3.1 基于逆合成路径 A 制定的合成路线Ⅰ | 第38-45页 |
| 3.1.1 合成路线Ⅰ简述 | 第38-39页 |
| 3.1.2 合成路线Ⅰ具体步骤 | 第39-44页 |
| 3.1.3 合成路线Ⅰ中相关化合物结构的表征数据 | 第44-45页 |
| 3.1.4 合成路线Ⅰ的改进思路 | 第45页 |
| 3.2 基于逆合成路径 B 制定的合成路线Ⅱ | 第45-52页 |
| 3.2.1 合成路线Ⅱ简述 | 第45-46页 |
| 3.2.2 合成路线Ⅱ中具体步骤 | 第46-50页 |
| 3.2.3. NorrishⅡ型环化反应的机理推断 | 第50-51页 |
| 3.2.4 合成路线Ⅱ中相关化合物结构的表征数据 | 第51-52页 |
| 3.3 基于 TES 硅保护法对合成路线 | 第52-55页 |
| 3.3.1 TES 硅保护法合成路线的设计 | 第52-53页 |
| 3.3.2 合成路线中具体步骤 | 第53-54页 |
| 3.3.3 改进路线相关化合物结构的表征数据 | 第54页 |
| 3.3.4 TES 硅保护法的相关讨论 | 第54-55页 |
| 3.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第4章 合成路线Ⅱ的改进方法 | 第56-65页 |
| 4.1 基于苄基醚保护法对合成路线Ⅱ的改进 | 第56-59页 |
| 4.1.1 苄基醚保护合法成路线的设计 | 第56-57页 |
| 4.1.2 苄基醚保护合成路线中具体步骤 | 第57-58页 |
| 4.1.3 基于苄基醚保护路线相关化合物结构的表征数据 | 第58-59页 |
| 4.1.4 关于苄基醚保护方法的讨论 | 第59页 |
| 4.2 基于甲氧基醚保护法对合成路线Ⅱ的改进 | 第59-63页 |
| 4.2.1 甲氧基醚保护法合成路线的设计 | 第59-60页 |
| 4.2.2 甲氧基醚保护合成路线中具体步骤 | 第60-62页 |
| 4.2.3 基于甲氧基醚保护合成路线相关化合物结构的表征数据 | 第62-63页 |
| 4.2.4 基于甲氧基醚保护法合成路线的评估 | 第63页 |
| 4.3 本章小结 | 第63-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 附录 部分化合物的核磁谱图 | 第75-87页 |
