| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 0 前言 | 第11-12页 |
| 1 绪论 | 第12-27页 |
| 1.1 电致变色材料概述 | 第12-18页 |
| 1.1.1 电致变色材料简介 | 第12-13页 |
| 1.1.1.1 电致变色材料的定义 | 第12页 |
| 1.1.1.2. 电致变色材料应用要求 | 第12-13页 |
| 1.1.2 电致变色材料分类 | 第13-15页 |
| 1.1.2.1 无机电致变色材料 | 第13-14页 |
| 1.1.2.2 有机电致变色材料 | 第14-15页 |
| 1.1.2.3 插入物电致变色材料 | 第15页 |
| 1.1.3 电致变色材料的变色机理 | 第15-18页 |
| 1.1.3.1 Deb(色心)模型 | 第16页 |
| 1.1.3.2 双注入模型 | 第16-17页 |
| 1.1.3.3 电化学反应模型 | 第17页 |
| 1.1.3.4 极化模型 | 第17-18页 |
| 1.1.3.5 自由载流子模型 | 第18页 |
| 1.2 电致变色材料的制备工艺 | 第18-21页 |
| 1.2.1 溶胶-凝胶法 | 第18-20页 |
| 1.2.2 化学气相沉积 | 第20页 |
| 1.2.3 真空蒸镀沉积 | 第20页 |
| 1.2.4 电化学沉积法 | 第20-21页 |
| 1.2.4.1 电化学沉积机理 | 第20页 |
| 1.2.4.2 电化学沉积体系 | 第20-21页 |
| 1.2.4.3 沉积层与基体结合原理 | 第21页 |
| 1.3. NIO 的结构与性能 | 第21-24页 |
| 1.3.1 NiO 的结构 | 第21-23页 |
| 1.3.2 NiO 薄膜的变色机理 | 第23-24页 |
| 1.3.3 NiO 电致变色薄膜研究存在的问题 | 第24页 |
| 1.4 薄膜的表征方法 | 第24-26页 |
| 1.4.1 薄膜的结构、组成及形貌 | 第24-25页 |
| 1.4.1.1 XRD 测试 | 第24-25页 |
| 1.4.1.2 扫描电子显微镜（SEM）及能谱仪（EDS）表征 | 第25页 |
| 1.4.2 薄膜的光学性能测试 | 第25页 |
| 1.4.3 薄膜的电化学测试 | 第25-26页 |
| 1.5 论文研究的目的及意义 | 第26-27页 |
| 2 实验 | 第27-31页 |
| 2.1 化学试剂与实验仪器 | 第27-29页 |
| 2.1.1 化学试剂及预处理 | 第27-28页 |
| 2.1.2 仪器设备 | 第28-29页 |
| 2.2 薄膜制备与表征 | 第29-31页 |
| 2.2.1 制备薄膜 | 第29-30页 |
| 2.2.2 变色实验 | 第30页 |
| 2.2.3 薄膜的表征 | 第30-31页 |
| 3 结果分析与讨论 | 第31-64页 |
| 3.1 探索性实验 | 第31-36页 |
| 3.1.1 在 DMF 中 Zn~(2+)和 Ni~(2+)沉积电位的确定 | 第31-34页 |
| 3.1.1.1 Zn~(2+)在 DMF 中沉积电位的确定 | 第31-32页 |
| 3.1.1.2 Ni~(2+)在 DMF 中沉积电位的确定 | 第32-33页 |
| 3.1.1.3 Zn~(2+)、Ni~(2+)在 DMF 中共沉积电位的确定 | 第33-34页 |
| 3.1.2 镀液中 Zn~(2+)与 Ni~(2+)浓度配比的确定 | 第34-36页 |
| 3.1.2.1 循环伏安（CV）曲线 | 第35-36页 |
| 3.2 工艺参数对薄膜性能的影响 | 第36-55页 |
| 3.2.1 掺杂浓度对薄膜结构和性能的影响 | 第36-44页 |
| 3.2.1.1 薄膜的形貌 | 第37-38页 |
| 3.2.1.2 薄膜的循环伏安（CV）特性 | 第38-40页 |
| 3.2.1.3 薄膜的变色响应时间 | 第40-42页 |
| 3.2.1.4 薄膜的透光性 | 第42-44页 |
| 3.2.2 沉积电位对薄膜性能的影响 | 第44-49页 |
| 3.2.2.1 薄膜的形貌和成分 | 第44-45页 |
| 3.2.2.2 薄膜的循环伏安（CV）特性 | 第45-47页 |
| 3.2.2.3 薄膜的变色响应时间 | 第47页 |
| 3.2.2.4 薄膜的透光性 | 第47-49页 |
| 3.2.3. 沉积时间对薄膜性能的影响 | 第49-55页 |
| 3.2.3.1 SEM 图片及 EDS 测试 | 第50-51页 |
| 3.2.3.2 薄膜的循环伏安（CV）特性 | 第51-52页 |
| 3.2.3.3 薄膜的变色响应时间 | 第52-53页 |
| 3.2.3.4 薄膜的透光性 | 第53-55页 |
| 3.3 优化工艺条件下所制备薄膜的形貌、结构和性能 | 第55-64页 |
| 3.3.1 薄膜的形貌、组成与结构 | 第55-59页 |
| 3.3.2 薄膜的性能 | 第59-64页 |
| 3.3.2.1 薄膜的电学性能 | 第59-61页 |
| 3.3.2.2 薄膜的光学性能 | 第61-62页 |
| 3.3.2.3 薄膜的循环寿命及记忆存储能力 | 第62-64页 |
| 4 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 个人简历 | 第72页 |
| 硕士期间发表论文 | 第72-73页 |
