| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 金属有机反应的基元步骤 | 第8-11页 |
| 1.2.1 配体的配位和解离 | 第8-9页 |
| 1.2.2 配体置换 | 第9页 |
| 1.2.3 氧化加成 | 第9-10页 |
| 1.2.4 迁移插入 | 第10页 |
| 1.2.5 还原消除 | 第10-11页 |
| 1.3 过渡金属催化硅氢加成反应机理 | 第11-17页 |
| 1.3.1 配位加成机理 | 第11-15页 |
| 1.3.1.1 Chalk-Harrod机理 | 第11-12页 |
| 1.3.1.2 Ojima机理 | 第12-13页 |
| 1.3.1.3 Zheng-Chan机理 | 第13-14页 |
| 1.3.1.4 Hofmann-Gade机理 | 第14-15页 |
| 1.3.2 离子加成机理 | 第15页 |
| 1.3.3 自由基加成机理 | 第15-17页 |
| 参考文献 | 第17-22页 |
| 第二章 理论研究方法 | 第22-28页 |
| 2.1 概述 | 第22页 |
| 2.2 量子化学计算方法 | 第22-26页 |
| 2.2.1 半经验方法 | 第23页 |
| 2.2.2 从头算方法 | 第23-24页 |
| 2.2.3 密度泛函理论 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-28页 |
| 第三章 铼(Ⅴ)氧配合物催化羰基硅氢加成反应的机理研究 | 第28-47页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 高价态过渡金属配合物催化硅氢加成机理研究背景 | 第28-32页 |
| 3.2.1 Toste机理 | 第28-31页 |
| 3.2.2 复分解机理 | 第31-32页 |
| 3.3 计算方法 | 第32页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第32-42页 |
| 3.4.1 离子氢化机理 | 第32-38页 |
| 3.4.1.1 HSiMe_3的加成 | 第32-34页 |
| 3.4.1.2 PhCHO的还原 | 第34-37页 |
| 3.4.1.3 H转移 | 第37-38页 |
| 3.4.2 [2+2]加成机理 | 第38页 |
| 3.4.3 σ键复分解机理 | 第38-39页 |
| 3.4.4 小结 | 第39-40页 |
| 3.4.5 不同理论水平对于计算结果影响的研究 | 第40-42页 |
| 3.5 结论 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-47页 |
| 第四章 铼氧配合物催化CO活化的机理研究 | 第47-68页 |
| 4.1 引言 | 第47-49页 |
| 4.2 计算方法 | 第49-50页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第50-62页 |
| 4.3.1 铼氧配合物1A催化CO活化的机理研究 | 第50-57页 |
| 4.3.1.1 CO的加成 | 第50-52页 |
| 4.3.1.2 CO基团的迁移 | 第52-54页 |
| 4.3.1.3 乙酸产物的形成 | 第54-57页 |
| 4.3.2 铼氧配合物1B催化CO活化的机理研究 | 第57-61页 |
| 4.3.3 铼氧配合物1A/1B催化CO活化不同机制的讨论 | 第61-62页 |
| 4.4 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 在读期间发表的学术论文及研究成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
