LD端面泵浦1纳秒电光调QNd：YVO4激光器
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| ·窄脉宽固体激光器的发展与现状 | 第8-15页 |
| ·优势特点及主要应用 | 第8-10页 |
| ·实现方法及国内外研究进展 | 第10-15页 |
| ·半导体泵浦全固态激光器的发展与现状 | 第15-17页 |
| ·论文主要研究工作 | 第17-20页 |
| 第2章 LD 端面泵浦电光调Q 激光器的理论分析 | 第20-34页 |
| ·LD 端面泵浦理论研究 | 第20-25页 |
| ·四能级系统速率方程 | 第20-22页 |
| ·泵浦光场分布函数 | 第22页 |
| ·振荡光场分布函数 | 第22-23页 |
| ·阈值泵浦功率 | 第23-24页 |
| ·输出功率和斜效率 | 第24-25页 |
| ·电光调Q 理论研究 | 第25-31页 |
| ·调Q 技术原理及方式选择 | 第25-27页 |
| ·调Q 参数与脉宽的关系 | 第27-31页 |
| ·窄脉宽激光输出的实现途径 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 窄脉宽调Q 激光器的晶体选择 | 第34-48页 |
| ·适于LD 泵浦的激光晶体介绍及选择 | 第34-42页 |
| ·Nd:YAG 晶体 | 第35-36页 |
| ·Nd:YVO_4 晶体 | 第36-38页 |
| ·Nd:GdVO_4 晶体 | 第38-39页 |
| ·Nd:YLF 晶体 | 第39页 |
| ·其他掺Nd~(3+)晶体 | 第39-40页 |
| ·本研究所采用激光晶体及其参数 | 第40-42页 |
| ·常用电光晶体的介绍及选择 | 第42-46页 |
| ·DKDP 晶体 | 第42-43页 |
| ·BBO 晶体 | 第43页 |
| ·LiNbO_3晶体 | 第43-44页 |
| ·LGS 晶体 | 第44页 |
| ·RTP 晶体 | 第44-45页 |
| ·本研究所采用电光晶体及其参数 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 1 纳秒电光调Q 激光器的实验研究 | 第48-62页 |
| ·实验结构 | 第48-49页 |
| ·泵浦源特性研究 | 第49-53页 |
| ·半导体激光器驱动源性能 | 第50-51页 |
| ·半导体激光器主要参数 | 第51-53页 |
| ·端面泵浦Nd:YVO_4 晶体特性研究 | 第53-56页 |
| ·泵浦光焦点位置对自由运转输出功率的影响 | 第53-54页 |
| ·泵浦光偏振态对自由运转输出功率的影响 | 第54-56页 |
| ·电光调Q 实验及参数优化 | 第56-59页 |
| ·不同腔长对调Q 输出脉宽的影响 | 第56页 |
| ·不同输出镜透过率对调Q 输出脉宽的影响 | 第56-57页 |
| ·不同消光比对调Q 输出脉宽的影响 | 第57-58页 |
| ·不同泵浦电流对调Q 输出脉宽的影响 | 第58-59页 |
| ·不同延时参数对调Q 输出脉宽的影响 | 第59页 |
| ·实验结果及分析 | 第59-61页 |
| ·输出脉冲能量 | 第60页 |
| ·输出脉冲的光束质量 | 第60-61页 |
| ·输出脉冲稳定性 | 第61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
