单相Ag2O光存储和磁光存储薄膜的射频磁控溅射研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 1 绪论 | 第9-14页 |
| ·研究背景与意义 | 第9-11页 |
| ·研究现状 | 第11-12页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第12-14页 |
| 2 射频磁控溅射制备Ag_2O薄膜 | 第14-33页 |
| ·溅射功率对薄膜性能的影响 | 第14-20页 |
| ·溅射功率对Ag_2O薄膜的微结构的影响 | 第14-18页 |
| ·溅射功率对Ag_2O薄膜的光学性质的影响 | 第18-20页 |
| ·沉积温度对薄膜性能的影响 | 第20-25页 |
| ·沉积温度对Ag_2O薄膜的微结构的影响 | 第20-23页 |
| ·沉积温度对Ag_2O薄膜的光学性质的影响 | 第23-25页 |
| ·氧氩比对薄膜性能的影响 | 第25-30页 |
| ·氧氩比对Ag_2O薄膜的微结构的影响 | 第25-28页 |
| ·氧氩比对Ag_2O薄膜的光学性质的影响 | 第28-30页 |
| ·小结 | 第30-33页 |
| 3 Ag_2O薄膜椭圆偏振光谱研究 | 第33-46页 |
| ·不同温度下Ag_2O薄膜的椭圆偏振光谱研究 | 第33-39页 |
| ·单相Ag_2O薄膜的椭圆偏振光谱研究 | 第39-44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 4 结论 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 个人简历与硕士期间发表论文 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52页 |
