| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| ·电介质的简述 | 第11-12页 |
| ·高频介质陶瓷 | 第12-16页 |
| ·高频电介质陶瓷的性能要求和分类 | 第13-14页 |
| ·钛酸钙瓷和钛硅酸钙瓷 | 第14-16页 |
| ·介电性能的理论基础 | 第16-20页 |
| ·极化与介电常数 | 第16-19页 |
| ·介质损耗与极化 | 第19-20页 |
| ·介电常数温度系数 | 第20页 |
| ·激光烧结功能陶瓷 | 第20-22页 |
| ·激光烧结技术 | 第20-22页 |
| ·激光烧结功能陶瓷的特点 | 第22页 |
| ·本文的研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 激光烧结陶瓷技术 | 第24-34页 |
| ·激光烧结陶瓷的基本理论 | 第24-27页 |
| ·激光的吸收 | 第24-25页 |
| ·导热理论 | 第25-27页 |
| ·激光烧结陶瓷的实验装置 | 第27-28页 |
| ·激光烧结方法 | 第28-30页 |
| ·升温阶段 | 第29页 |
| ·烧结阶段 | 第29-30页 |
| ·冷却阶段 | 第30页 |
| ·气氛的控制 | 第30页 |
| ·测试方法 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第3章 激光制备CaTiO_3—CaTiSiO_5介质陶瓷研究 | 第34-48页 |
| ·激光烧结CaTiO_3-CaTiSiO_5陶瓷 | 第34-35页 |
| ·工艺流程 | 第34-35页 |
| ·高温炉烧结CaTiO_3-CaTiSiO_5陶瓷 | 第35-37页 |
| ·工艺流程 | 第35-37页 |
| ·测试分析 | 第37-46页 |
| ·相对密度 | 第37页 |
| ·介电性能 | 第37-40页 |
| ·XRD分析 | 第40-42页 |
| ·显微组织 | 第42-45页 |
| ·Raman谱 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 激光烧结(CaTiSiO_5)_(0.18)(TiO_2)_(0.82)高频介质陶瓷研究 | 第48-55页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·激光烧结快速(CaTiSiO_5)_(0.18)(TiO_2)_(0.82)陶瓷 | 第49-51页 |
| ·工艺流程 | 第49-50页 |
| ·烧结工艺 | 第50-51页 |
| ·实验结果与分析 | 第51-54页 |
| ·相对密度 | 第51页 |
| ·XRD图谱 | 第51-52页 |
| ·显微组织 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 全文总结 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及成果 | 第62页 |
| 个人简历 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
