| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·气敏传感器概述 | 第9-11页 |
| ·AZO 的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·AZO 气敏薄膜的制备方法 | 第12-15页 |
| ·溶胶-凝胶（Sol-Gel） | 第12页 |
| ·真空蒸发法（Vacuum evaporation） | 第12-13页 |
| ·化学气相沉积法（CVD） | 第13页 |
| ·喷雾热解法（Spray pyrolysis） | 第13-14页 |
| ·溅射法（Sputtering） | 第14-15页 |
| ·气敏传感器的要求和特点 | 第15-16页 |
| ·气敏传感器的国内外研究现状及存在问题 | 第16-19页 |
| ·气敏传感器的国内外研究现状 | 第16-18页 |
| ·气敏传感器目前存在的问题 | 第18-19页 |
| ·本课题的研究意义及主要内容 | 第19-20页 |
| 第二章 AZO 气敏薄膜的实验设计及表征手段 | 第20-27页 |
| ·实验设计 | 第20-21页 |
| ·AZO 薄膜传感器的制备流程 | 第21-24页 |
| ·AZO 气敏薄膜的测试方法 | 第24-27页 |
| ·AZO 气敏薄膜的晶体结构的表征 | 第24页 |
| ·AZO 气敏薄膜的表面形貌的表征 | 第24-25页 |
| ·AZO 气敏薄膜的气敏性能的表征 | 第25-27页 |
| 第三章 AZO 薄膜的结构表征与气敏特性分析 | 第27-43页 |
| ·不同溅射功率对 AZO 薄膜特性影响 | 第27-33页 |
| ·AFM 表面形貌的比较 | 第27-29页 |
| ·XRD 晶体结构的比较 | 第29-30页 |
| ·薄膜气敏特性的比较 | 第30-33页 |
| ·不同衬底温度对 AZO 薄膜特性的影响 | 第33-38页 |
| ·XRD 晶体结构的比较 | 第33-34页 |
| ·AFM 表面形貌的比较 | 第34-37页 |
| ·薄膜气敏特性的比较 | 第37-38页 |
| ·不同工作压强对 AZO 薄膜特性的影响 | 第38-43页 |
| ·工作压强对 AZO 薄膜生长速率的影响 | 第38-39页 |
| ·AFM 表面形貌的比较 | 第39-41页 |
| ·AZO 薄膜的气敏性能分析 | 第41-43页 |
| 第四章 后期处理对 AZO 气敏薄膜的性能影响研究 | 第43-55页 |
| ·后期快速热退火对 AZO 薄膜特性的影响 | 第43-47页 |
| ·表面形貌 | 第43-44页 |
| ·晶体结构 | 第44-45页 |
| ·气敏性能 | 第45-47页 |
| ·表面改性对 AZO 薄膜气敏特性的影响 | 第47-51页 |
| ·TiO-AZO 薄膜气敏元件的制备 | 第47页 |
| ·结果与分析 | 第47-51页 |
| ·AZO 薄膜气敏传感器气敏机理 | 第51-55页 |
| ·AZO 薄膜的气敏机理 | 第51-53页 |
| ·表面改性作用机理 | 第53-55页 |
| 第五章 总结与展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 发表论文和科研情况 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |