| 摘要 | 第1-10页 |
| ABSTRACT | 第10-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-17页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·ZnO 薄膜的结构与基本性特性 | 第12-14页 |
| ·ZnO 的结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO 的基本特性 | 第13-14页 |
| ·ZnO 薄膜的应用前景 | 第14-15页 |
| ·ZnO 薄膜的掺杂 | 第15页 |
| ·选题依据及主要内容 | 第15-17页 |
| ·选题背景 | 第15-16页 |
| ·主要内容 | 第16-17页 |
| 第2章 AZO 薄膜制备和表征 | 第17-23页 |
| ·薄膜的制备和表征方法介绍 | 第17-18页 |
| ·分子束外延（MBE）技术 | 第17页 |
| ·脉冲激光沉积法（PLD） | 第17页 |
| ·化学气相沉积法（VCD） | 第17-18页 |
| ·磁控溅射法（MS） | 第18页 |
| ·主要表征方法 | 第18-21页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第18-19页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第19-20页 |
| ·紫外光分光计 | 第20页 |
| ·四探针测试仪 | 第20-21页 |
| ·实验设备概况 | 第21-23页 |
| ·实验设备 | 第21-22页 |
| ·样品制备 | 第22-23页 |
| 第3章 衬底温度对 AZO 薄膜的影响 | 第23-28页 |
| ·实验方法 | 第23页 |
| ·结果与讨论 | 第23-27页 |
| ·不同衬底温度对 AZO 薄膜表面特征的影响 | 第23-24页 |
| ·不同衬底温度对 AZO 薄膜形貌结构的影响 | 第24-26页 |
| ·不同衬底温度对 AZO 薄膜光学性能和电学性能的影响 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第4章 溅射压强对 AZO 薄膜性能的影响 | 第28-33页 |
| ·实验方法 | 第28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-32页 |
| ·薄膜的表面特征和形貌结构分析 | 第28-31页 |
| ·不同溅射压强对薄膜的电学特性影响 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第5章 缓冲层对 AZO 薄膜的影响 | 第33-38页 |
| ·缓冲层理论介绍 | 第33页 |
| ·实验方法 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-37页 |
| ·薄膜表面特征和形貌结构的分析 | 第34-36页 |
| ·缓冲层对薄膜光学性能的影响 | 第36页 |
| ·缓冲层对薄膜电学性能的影响 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 结束语 | 第38-39页 |
| 致谢 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-44页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第44页 |