| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·ZnO基本性质及相对优势 | 第8-10页 |
| ·ZnO研究进展及现状 | 第10-12页 |
| ·ZnO薄膜的生长方法介绍 | 第12-15页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第12-14页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第14页 |
| ·磁控溅射 | 第14-15页 |
| ·溶胶-凝胶技术 | 第15页 |
| ·ZnO薄膜的表征手段 | 第15-20页 |
| ·X射线的衍射 | 第15-17页 |
| ·共振拉曼光谱 | 第17-19页 |
| ·吸收光谱 | 第19页 |
| ·光致发光谱 | 第19-20页 |
| ·本论文的研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 射频等离子体辅助分子束外延技术概述 | 第21-36页 |
| ·分子束外延简介 | 第21-26页 |
| ·分子束外延工作原理 | 第21-22页 |
| ·分子束外延系统的结构 | 第22-24页 |
| ·分子束外延技术的发展历程 | 第24-26页 |
| ·射频等离子体辅助分子束外延 | 第26-31页 |
| ·束源炉 | 第27-28页 |
| ·射频等离子体源 | 第28-29页 |
| ·反射式高能电子衍射仪 | 第29-31页 |
| ·分子束外延薄膜的生长过程 | 第31-36页 |
| ·衬底的选择 | 第31-33页 |
| ·分子束外延的生长过程描述 | 第33-36页 |
| 第三章 在蓝宝石(0001)衬底上生长高质量ZnO薄膜 | 第36-43页 |
| ·引言 | 第36-37页 |
| ·Zn束流对ZnO薄膜质量影响的研究 | 第37-39页 |
| ·生长前衬底的清洗 | 第37页 |
| ·采用不同Zn束流生长ZnO薄膜 | 第37页 |
| ·结果与分析 | 第37-39页 |
| ·高质量ZnO薄膜的生长与表征 | 第39-43页 |
| ·实验过程 | 第39页 |
| ·结果与分析 | 第39-43页 |
| 第四章 结论 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-48页 |
| 攻读硕士期间论文发表情况 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49页 |