第一章 绪论 | 第1-36页 |
·新材料的发展概况 | 第18页 |
·纳米SiO_2及其应用 | 第18-20页 |
·SiO_2材料的结构 | 第18-19页 |
·纳米SiO_2的应用 | 第19-20页 |
·发光材料概述 | 第20-25页 |
·发光的定义及分类 | 第20-22页 |
·发光材料的应用 | 第22-23页 |
·阳离子掺杂发光材料的发光机理 | 第23-25页 |
·SiO_2材料光活性缺陷中心及其光学性能 | 第25-31页 |
·富氧型缺陷中心 | 第25-27页 |
·缺氧型缺陷中心 | 第27-30页 |
·E’中心 | 第27页 |
·ODC(Ⅰ)中心 | 第27-28页 |
·oDC(Ⅱ)中心 | 第28-30页 |
·阳离子掺杂对SiO_2材料缺陷中心的影响 | 第30-31页 |
·本论文研究目的、意义和内容 | 第31-33页 |
·论文研究的目的和意义 | 第31-32页 |
·主要研究内容 | 第32-33页 |
参考文献 | 第33-36页 |
第二章 纳米SiO_2的制备、掺杂处理和性能表征 | 第36-46页 |
·纳米SiO_2制备概述 | 第36-39页 |
·气相法 | 第36-37页 |
·化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称 CVD) | 第36-37页 |
·等离子CVD法 | 第37页 |
·液相法 | 第37-39页 |
·液相沉淀 | 第37页 |
·溶胶-凝胶法 | 第37-39页 |
·掺杂改性纳米SiO_2的溶胶-凝胶法制备艺 | 第39-42页 |
·实验原料 | 第39页 |
·制备工艺 | 第39-42页 |
·掺杂改性SiO_2的性能表征 | 第42-44页 |
·X射线衍射分析(XRO)分析 | 第42页 |
·透射电镜(TEM)分析 | 第42页 |
·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第42页 |
·红外吸收光谱(IR)分析 | 第42-43页 |
·紫外-可见吸收光谱分析 | 第43页 |
·光致发光谱(PL)分析 | 第43-44页 |
·本论文研究的主要仪器设备 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-46页 |
第三章 热处理对纳米SiO_2光学性能的影响 | 第46-57页 |
·引言 | 第46页 |
·实验材料与方法 | 第46页 |
·纳米SiO_2的表征 | 第46-49页 |
·纳米SiO_2的光致发光性能 | 第49-53页 |
·空气中热处理对纳米SiO_2光致发光性能的影响 | 第49-50页 |
·H_2气氛中热处理对纳米SiO_2光致发光性能的影响 | 第50-53页 |
·讨论 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-57页 |
第四章 Cu~(2+)离子掺杂纳米SiO_2的光学性能 | 第57-64页 |
·引言 | 第57页 |
·实验材料与方法 | 第57-58页 |
·Cu~(2+)离子掺杂纳米SiO_2光学性能 | 第58-62页 |
·空气中热处理Cu~(2+)离子掺杂纳米SiO_2光致发光性能 | 第58-60页 |
·Ar气氛中热处理Cu~(2+)离子掺杂纳米SiO_2的光学性能 | 第60-61页 |
·H_2气氛中热处理Cu~(2+)离子掺杂纳米SiO_2的光致发光性能 | 第61-62页 |
·本章小结 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-64页 |
第五章 Ce~(3+)离子掺杂纳米SiO_2的光学性能 | 第64-80页 |
·引言 | 第64-66页 |
·实验材料与方法 | 第66页 |
·实验结果 | 第66-78页 |
·Ce~(3+)离子掺杂纳米SiO_2的X射线光电子能谱 | 第66页 |
·溶液中Ce~(3+)离子光吸收及光致发光性能 | 第66-67页 |
·Ce~(3+)离子掺杂纳米SiO_2的光吸收性能 | 第67-69页 |
·Ce~(3+)离子掺杂纳米SiO_2光致发光性能 | 第69-78页 |
·低温处理Ce~(3+)离子掺杂纳米SiO_2光致发光性能 | 第69-72页 |
·高温处理Ce~(3+)离子掺杂纳米SiO_2光致发光性能 | 第72-75页 |
·不同气氛热处理对Ce~(3+)掺杂纳米SiO_2蓝色发光带的影响 | 第75-78页 |
·本章小结 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-80页 |
第六章 阴离子对Ce~(3+)掺杂纳米SiO_2发光性能的影响 | 第80-102页 |
·引言 | 第80-81页 |
·S~(2-)离子对Ce~(3+)掺杂纳米SiO_2光学性能的影响 | 第81-88页 |
·材料的制备及性能测试 | 第81-82页 |
·材料的制备 | 第81-82页 |
·性能测试 | 第82页 |
·实验结果及分析 | 第82-88页 |
·~(2-)、Ce~(3+)离子共掺杂纳米SiO_2光学性能 | 第82-85页 |
·气氛控制硫化处理对Ce~(3+)掺杂纳米SiO_2光学性能的影响 | 第85-88页 |
·Cl~-离子对Ce~(3+)掺杂纳米SiO_2光学性能的影响 | 第88-94页 |
·材料的制备及性能测试 | 第88-89页 |
·材料的制备 | 第88-89页 |
·性能测试 | 第89页 |
·实验结果及分析 | 第89-94页 |
·氯化处理(NH_4Cl)对Ce~(3+)掺杂纳米SiO_2光学性能的影响 | 第89-93页 |
·氯化处理(Cl_2)对Ce~(3+)掺杂纳米SiO_2光学性能的影响 | 第93-94页 |
·F~-离子对Ce~(3+)掺杂纳米SiO_2光学性能的影响 | 第94-100页 |
·材料的制备及性能测试 | 第94页 |
·材料的制备 | 第94页 |
·性能测试 | 第94页 |
·F~-、Ce~(3+)离子共掺杂纳米SiO_2光学性能 | 第94-100页 |
·本章小结 | 第100-101页 |
参考文献 | 第101-102页 |
第七章 全文总结 | 第102-104页 |
攻读博士论文期间的研究成果 | 第104页 |