| 第一章 绪论 | 第1-14页 |
| ·空穴孔阵玻璃载体材料的研究背景 | 第9-13页 |
| ·空穴孔阵玻璃载体材料的研究背景 | 第9-10页 |
| ·国内外的关于高密度纳米玻璃载体研究现状 | 第10-11页 |
| ·空穴孔阵玻璃载体材料的研究内容 | 第11-13页 |
| ·空穴孔阵玻璃载体材料的研究目的及意义 | 第13-14页 |
| 第二章 文献综述 | 第14-30页 |
| ·光敏微晶玻璃发展趋势 | 第14页 |
| ·光敏微晶玻璃应用 | 第14-15页 |
| ·光敏微晶玻璃国内外的研究进展 | 第15-19页 |
| ·玻璃成分 | 第16-17页 |
| ·曝光工艺 | 第17-18页 |
| ·热处理 | 第18页 |
| ·HF酸刻蚀 | 第18-19页 |
| ·光敏微晶玻璃的理论概述 | 第19-28页 |
| ·光敏微晶玻璃理论概述 | 第19-28页 |
| ·光敏微晶玻璃基片上空穴孔阵的加工方法 | 第28页 |
| ·本课题研究的方法 | 第28-30页 |
| 第三章 实验 | 第30-35页 |
| ·玻璃的组分设计 | 第30-32页 |
| ·光敏微晶玻璃试样的制备与加工 | 第32-33页 |
| ·玻璃制备 | 第32页 |
| ·UV曝光 | 第32-33页 |
| ·热处理 | 第33页 |
| ·HF酸刻蚀 | 第33页 |
| ·性能和结构测试 | 第33-35页 |
| ·X射线粉末衍射定性分析(X-ray diffraction in qualative) | 第33页 |
| ·示差扫描量热分析(Differential scanning calorimetry) | 第33-34页 |
| ·线性热膨胀系数 | 第34页 |
| ·紫外-可见光谱分析(UV-Vis spectral analysis) | 第34页 |
| ·扫描电子显微镜分析(Scanning electron microscopy) | 第34页 |
| ·场扫描电子显微分析(Field emission scanning electron microscopy) | 第34-35页 |
| 第四章 实验结果与分析 | 第35-46页 |
| ·实验结果 | 第35-39页 |
| ·熔制结果 | 第35页 |
| ·局部曝光—晶化结果 | 第35-36页 |
| ·晶化样品的稀HF酸刻蚀结果 | 第36-37页 |
| ·DSC／TG分析结果 | 第37-38页 |
| ·线性热膨胀系数的测试结果 | 第38页 |
| ·实验结果小结 | 第38-39页 |
| ·实验结果分析 | 第39-44页 |
| ·组成对光敏微晶玻璃低温析晶性能的影响 | 第39-42页 |
| ·热处理制度对光敏微晶玻璃低温析晶性能的影响 | 第42-43页 |
| ·曝光剂量对光敏微晶玻璃低温析晶性能的影响 | 第43-44页 |
| ·稀HF酸刻蚀对光敏微晶玻璃基片性能的影响 | 第44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 第五章 实验结果讨论与实验工艺优化 | 第46-65页 |
| ·实验结果讨论 | 第46-48页 |
| ·光敏微晶玻璃的组成对制备空穴孔阵基片的影响 | 第46页 |
| ·热处理制度对制备空穴孔阵基片的影响 | 第46-47页 |
| ·UV曝光工艺对制备空穴孔阵基片的影响 | 第47页 |
| ·稀HF刻蚀条件对制备空穴孔阵基片的影响 | 第47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| ·实验工艺优化 | 第48-63页 |
| ·光敏微晶玻璃的组成 | 第48页 |
| ·热处理制度的正交设计优化 | 第48-58页 |
| ·UV曝光工艺的改进 | 第58-60页 |
| ·酸刻蚀条件的选择 | 第60-63页 |
| ·小结 | 第63-65页 |
| 第六章 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 附录 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
