铂族金属薄膜初期沉积机理的数值模拟研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·研究的背景 | 第9-10页 |
| ·薄膜计算机模型的研究现状 | 第10-12页 |
| ·相应计算机模拟技术应用发展现状 | 第12-14页 |
| ·面临的问题 | 第14-15页 |
| ·研究目的和研究内容 | 第15-19页 |
| ·研究目的 | 第16-17页 |
| ·研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 薄膜沉积机理及有限元理论 | 第19-37页 |
| ·薄膜的表面形核与生长 | 第20-30页 |
| ·核形成的统计理论 | 第20-28页 |
| ·原子(团)扩散过程 | 第28页 |
| ·临界岛尺寸 | 第28-29页 |
| ·岛的大小分布 | 第29-30页 |
| ·岛的生长与结合 | 第30页 |
| ·相关的有限单元理论 | 第30-37页 |
| ·有限单元法的基本思想 | 第31-32页 |
| ·有限单元法的理论基础 | 第32-33页 |
| ·接触碰撞问题的有限元理论 | 第33-37页 |
| 第三章 薄膜沉积的数值模型 | 第37-47页 |
| ·薄膜沉积模型的解决思路和前提假设 | 第37-38页 |
| ·建立计算机数字模型的考虑因素 | 第38-41页 |
| ·沉积原子入射角度 | 第39页 |
| ·原子间的相互作用(势) | 第39-40页 |
| ·入射粒子的动能 | 第40页 |
| ·基底温度对薄膜生长形式的影响 | 第40-41页 |
| ·基底结构的影响 | 第41页 |
| ·薄膜沉积的数字模型 | 第41-45页 |
| ·入射粒子空间平面二维物理模拟模型 | 第42-43页 |
| ·薄膜沉积的有限元模型 | 第43-45页 |
| ·本文进行有限元模拟的方法和软件 | 第45-47页 |
| 第四章 薄膜沉积的计算机模拟过程和模拟结果 | 第47-61页 |
| ·沉积Pt原子与C或S_i基底的接触分析 | 第47-50页 |
| ·接触单元的选择 | 第47-48页 |
| ·执行接触分析 | 第48-50页 |
| ·模拟过程 | 第50-52页 |
| ·建立模型和划分网格 | 第50页 |
| ·识别接触对 | 第50-51页 |
| ·定义刚性目标面 | 第51页 |
| ·定义柔性体的接触面 | 第51-52页 |
| ·定义时间步长和运算时间 | 第52页 |
| ·模拟结果 | 第52-61页 |
| ·检验有限元法的合理性 | 第52-53页 |
| ·基底温度对结构的影响 | 第53-55页 |
| ·沉积原子半径对沉积薄膜的影响 | 第55-58页 |
| ·沉积原子能量对薄膜结构的影响 | 第58-60页 |
| ·沉积原子入射角度对薄膜生长的影响 | 第60-61页 |
| 第五章 薄膜缺陷与结构的理论分析和动力学分析 | 第61-67页 |
| ·薄膜缺陷的理论分析和动力学分析 | 第61-64页 |
| ·形成点缺陷的理论动力学分析和空穴浓度的计算 | 第61-64页 |
| ·随机原子渗透 | 第64页 |
| ·形成位错的定性原因 | 第64-65页 |
| ·薄膜生长模式 | 第65-67页 |
| 第六章 结论及展望 | 第67-69页 |
| ·结论 | 第67-68页 |
| ·研究展望和存在问题 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 附录 A 攻读硕士期间发表的论文 | 第74页 |
