摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 研究背景及意义 | 第10页 |
1.2 液晶显示器概况 | 第10-12页 |
1.2.1 液晶显示器的应用和发展状况 | 第10页 |
1.2.2 液晶显示器的结构组成 | 第10-11页 |
1.2.3 液晶显示器的环境危害性及资源性 | 第11-12页 |
1.3 液晶显示器中铟的回收工艺与进展 | 第12-17页 |
1.4 微波冶金技术概况 | 第17-18页 |
1.5 本文的研究内容与创新点 | 第18-19页 |
1.5.1 主要研究内容 | 第18-19页 |
1.5.2 技术路线 | 第19页 |
1.5.3 本文的创新之处 | 第19页 |
1.6 本章小结 | 第19-20页 |
第二章 实验原料、设备与方法分析 | 第20-23页 |
2.1 实验试剂 | 第20页 |
2.2 实验设备 | 第20-21页 |
2.3 实验步骤与方法 | 第21页 |
2.4 测定方法 | 第21-22页 |
2.5 本章小结 | 第22-23页 |
第三章 废液晶显示器的预处理实验研究 | 第23-26页 |
3.1 引言 | 第23页 |
3.2 拆解与破碎实验研究 | 第23-24页 |
3.3 热处理实验研究 | 第24页 |
3.4 预处理样品的表征与分析 | 第24-25页 |
3.5 本章小结 | 第25-26页 |
第四章 微波焙烧强化浸出废液晶显示器中铟的工艺研究 | 第26-37页 |
4.1 引言 | 第26页 |
4.2 实验材料、过程和检测方法 | 第26-27页 |
4.2.1 实验材料 | 第26页 |
4.2.2 实验过程 | 第26-27页 |
4.3 微波焙烧预处理对铟浸出率的影响 | 第27-29页 |
4.3.1 微波焙烧温度对铟浸出率的影响 | 第27-28页 |
4.3.2 微波焙烧时间对铟浸出率的影响 | 第28-29页 |
4.3.3 添加剂用量对铟浸出率的影响 | 第29页 |
4.4 未处理与微波焙烧预处理产物的硫酸浸出 | 第29-31页 |
4.4.1 浸出时间对铟浸出率的影响 | 第29-30页 |
4.4.2 硫酸初始浓度对铟浸出率的影响 | 第30页 |
4.4.3 浸出温度对铟浸出率的影响 | 第30-31页 |
4.4.4 液固体积质量比对铟浸出率的影响 | 第31页 |
4.5 优化模型的建立 | 第31-35页 |
4.5.1 实验设计 | 第31-32页 |
4.5.2 Design-Expert软件拟合响应面模型及统计分析 | 第32-33页 |
4.5.3 结果分析 | 第33-34页 |
4.5.4 三维响应面分析 | 第34-35页 |
4.5.5 响应面模型优化实验条件及验证 | 第35页 |
4.6 本章小结 | 第35-37页 |
第五章 微波焙烧强化浸出废液晶显示器中铟的动力学研究 | 第37-44页 |
5.1 条件实验 | 第37页 |
5.2 多因素对废液晶显示器中铟浸出率的影响 | 第37-38页 |
5.2.1 浸出温度的影响 | 第37-38页 |
5.2.2 硫酸初始浓度的影响 | 第38页 |
5.3 浸铟动力学分析 | 第38-43页 |
5.3.1 浸出反应的方程参数的确定 | 第38-40页 |
5.3.2 浸出反应的表观活化能的确定 | 第40-41页 |
5.3.3 浸出反应的表观反应级数的确定 | 第41-42页 |
5.3.4 动力学方程及检验 | 第42-43页 |
5.4 本章小结 | 第43-44页 |
第六章 结论及展望 | 第44-46页 |
6.1 结论 | 第44-45页 |
6.2 展望 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-54页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第54-55页 |
致谢 | 第55页 |