| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 前言 | 第12-13页 |
| 1.2 长余辉发光材料的分类及研究概述 | 第13-16页 |
| 1.2.1 硫化物基质长余辉发光材料 | 第13-14页 |
| 1.2.2 硅酸盐基质长余辉发光材料 | 第14页 |
| 1.2.3 铝酸盐基质长余辉发光材料 | 第14-16页 |
| 1.3 长余辉蓄能发光材料发光机理及其主要应用性能 | 第16-19页 |
| 1.3.1 余辉发光机理 | 第16-17页 |
| 1.3.1.1 Matsuzawa的空穴转移模型 | 第16-17页 |
| 1.3.1.2 电子陷阱模型 | 第17页 |
| 1.3.2 长余辉蓄能发光材料主要应用性能 | 第17-19页 |
| 1.3.2.1 耐水性能 | 第18页 |
| 1.3.2.2 热稳定性能 | 第18页 |
| 1.3.2.3 化学稳定性能 | 第18页 |
| 1.3.2.4 余辉衰减特性 | 第18-19页 |
| 1.4 长余辉蓄能发光材料在釉中的应用 | 第19-22页 |
| 1.4.1 釉的熔融性质 | 第19-20页 |
| 1.4.2 硫化物基质长余辉发光材料的应用 | 第20页 |
| 1.4.3 硅酸盐基质长余辉发光材料的应用 | 第20-21页 |
| 1.4.4 铝酸盐基质长余辉发光材料的应用 | 第21-22页 |
| 1.5 课题研究意义和研究内容 | 第22-24页 |
| 1.5.1 研究背景及意义 | 第22页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第22-23页 |
| 1.5.3 创新点 | 第23-24页 |
| 第二章 原料、仪器及实验方法 | 第24-30页 |
| 2.1 实验原料及仪器 | 第24-26页 |
| 2.2 实验方法 | 第26-30页 |
| 2.2.1 实验流程 | 第26页 |
| 2.2.2 测试与表征手段 | 第26-30页 |
| 2.2.2.1 发光亮度及余辉衰减 | 第26-27页 |
| 2.2.2.2 荧光光谱分析 | 第27-28页 |
| 2.2.2.3 X射线衍射分析（XRD） | 第28-29页 |
| 2.2.2.4 扫描电镜测试（SEM）和能谱测试（EDS） | 第29页 |
| 2.2.2.5 X射线荧光光谱分析（XRF） | 第29页 |
| 2.2.2.6 熔融温度范围测试 | 第29页 |
| 2.2.2.7 光泽度测量 | 第29-30页 |
| 第三章 制备方法对荧光釉性能的影响 | 第30-36页 |
| 3.1 前言 | 第30页 |
| 3.2 实验部分 | 第30-31页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第31-35页 |
| 3.3.1 长余辉荧光粉性能分析 | 第31-33页 |
| 3.3.2 制备方法对荧光釉釉面质量的影响 | 第33页 |
| 3.3.3 制备方法对荧光釉光学性能的影响 | 第33-34页 |
| 3.3.4 湿法浸釉对荧光釉影响的原因分析 | 第34-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 原料对荧光釉性能的影响 | 第36-50页 |
| 4.1 前言 | 第36页 |
| 4.2 基础釉化学成分对荧光釉性能的影响 | 第36-43页 |
| 4.2.1 四种基础釉的性能特点 | 第36-38页 |
| 4.2.2 荧光釉的制备 | 第38-39页 |
| 4.2.3 基础釉对荧光釉釉面质量的影响 | 第39页 |
| 4.2.4 基础釉对荧光釉的光学性能的影响 | 第39-43页 |
| 4.2.4.1 荧光釉的光学性能特点 | 第39-42页 |
| 4.2.4.2 基础釉对荧光釉光学性能影响机理 | 第42-43页 |
| 4.3 长余辉发光材料含量对荧光釉性能的影响 | 第43-48页 |
| 4.3.1 实验部分 | 第43-44页 |
| 4.3.2 实验结果讨论与分析 | 第44-48页 |
| 4.3.2.1 荧光釉的光学性能分析 | 第44-46页 |
| 4.3.2.2 荧光釉的晶相分析 | 第46页 |
| 4.3.2.3 荧光釉的形貌分析 | 第46-48页 |
| 4.3.2.4 荧光釉的釉面质量 | 第48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第五章 工艺过程对荧光釉性能的影响 | 第50-71页 |
| 5.1 前言 | 第50页 |
| 5.2 基础釉粒径的影响 | 第50-54页 |
| 5.2.1 实验方法 | 第50页 |
| 5.2.2 实验结果讨论与分析 | 第50-54页 |
| 5.2.2.1 熔块粉的粒度分析 | 第50-51页 |
| 5.2.2.2 光学性能分析 | 第51-52页 |
| 5.2.2.3 X射线衍射分析 | 第52-54页 |
| 5.3 釉层厚度的影响 | 第54-55页 |
| 5.3.1 实验方法 | 第54页 |
| 5.3.2 实验结果讨论与分析 | 第54-55页 |
| 5.3.2.1 光学性能分析 | 第54-55页 |
| 5.3.2.2 X射线衍射分析 | 第55页 |
| 5.4 烧成制度的影响 | 第55-63页 |
| 5.4.1 烧成温度对荧光釉的影响 | 第55-61页 |
| 5.4.1.1 实验方法 | 第55-56页 |
| 5.4.1.2 实验结果讨论与分析 | 第56-61页 |
| 5.4.2 升温速率对荧光釉的影响 | 第61-63页 |
| 5.4.2.1 实验方法 | 第61页 |
| 5.4.2.2 实验结果讨论与分析 | 第61-63页 |
| 5.5 烧成气氛的影响 | 第63-69页 |
| 5.5.1 实验方法 | 第63-64页 |
| 5.5.2 实验结果讨论与分析 | 第64-69页 |
| 5.5.2.1 荧光釉的光学性能分析 | 第64-66页 |
| 5.5.2.2 气氛对晶相和形貌的影响 | 第66-68页 |
| 5.5.2.3 荧光釉余辉衰减观察 | 第68-69页 |
| 5.6 本章小结 | 第69-71页 |
| 第六章 外加Eu_2O_3、Dy_2O_3对荧光釉性能的影响 | 第71-79页 |
| 6.1 前言 | 第71页 |
| 6.2 实验方法 | 第71-72页 |
| 6.3 实验结果与讨论 | 第72-78页 |
| 6.3.1 掺入Eu_2O_3、Dy_2O_3的荧光釉性能对比 | 第72-74页 |
| 6.3.2 掺入Dy_2O_3的荧光釉在不同气氛下制备的性能对比 | 第74-78页 |
| 6.4 本章小结 | 第78-79页 |
| 结论与展望 | 第79-81页 |
| 1 结论 | 第79-80页 |
| 2 展望 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-89页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90-92页 |
| 附件 | 第92页 |
