| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 透明导电薄膜简介 | 第11-14页 |
| 1.3 AZO薄膜的研究概述 | 第14-20页 |
| 1.3.1 AZO薄膜的基本特性 | 第14-17页 |
| 1.3.2 AZO薄膜主要制备方法 | 第17-18页 |
| 1.3.3 AZO薄膜的应用 | 第18-19页 |
| 1.3.4 AZO薄膜研究现状 | 第19-20页 |
| 1.4 本论文的研究意义及主要内容 | 第20-22页 |
| 第二章AZO薄膜的制备和表征方法 | 第22-31页 |
| 2.1 AZO薄膜的制备 | 第22-26页 |
| 2.1.1 磁控溅射基本原理 | 第22-24页 |
| 2.1.2 AZO薄膜制备流程 | 第24-26页 |
| 2.2 AZO薄膜的表征 | 第26-31页 |
| 第三章 靶材Al含量对AZO薄膜性能的影响 | 第31-36页 |
| 3.1 Al含量对AZO薄膜结构和形貌影响 | 第31-34页 |
| 3.2 Al含量对AZO薄膜的电学性能的影响 | 第34-35页 |
| 3.3 Al含量对AZO薄膜的光学性能的影响 | 第35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章AZO薄膜制备的正交实验设计及其性能研究 | 第36-48页 |
| 4.1 正交设计基本理论 | 第36-38页 |
| 4.1.1 正交设计及正交表 | 第36-38页 |
| 4.1.2 正交试验结果分析 | 第38页 |
| 4.2 正交设计在AZO薄膜中的应用 | 第38-46页 |
| 4.2.1 试验因素与水平的选取 | 第38-39页 |
| 4.2.2 S/N比和方差分析 | 第39-41页 |
| 4.2.3 AZO薄膜性能研究 | 第41-46页 |
| 4.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 第五章 热处理对AZO薄膜的性能研究 | 第48-63页 |
| 5.1 退火处理对AZO薄膜性能的影响 | 第48-58页 |
| 5.1.1 退火温度对AZO薄膜结构影响 | 第49-53页 |
| 5.1.2 退火温度对AZO薄膜的电学性能影响 | 第53-54页 |
| 5.1.3 退火温度对AZO薄膜的光学性能影响 | 第54-58页 |
| 5.2 紫外灯照射对AZO薄膜性能的影响 | 第58-62页 |
| 5.2.1 紫外灯照射时间对AZO薄膜结构影响 | 第59-60页 |
| 5.2.2 紫外灯照射时间对AZO薄膜的电学性能影响 | 第60-61页 |
| 5.2.3 紫外灯照射时间对AZO薄膜的光学性能影响 | 第61-62页 |
| 5.3 本章小结 | 第62-63页 |
| 第六章 柔性衬底上生长AZO薄膜 | 第63-72页 |
| 6.1 PET衬底上AZO薄膜的制备 | 第63-64页 |
| 6.2 结果与讨论 | 第64-71页 |
| 6.2.1 溅射功率对AZO薄膜性能的影响 | 第64-66页 |
| 6.2.2 溅射气压对AZO薄膜性能的影响 | 第66-69页 |
| 6.2.3 溅射时间对AZO薄膜性能的影响 | 第69-71页 |
| 6.3 本章小结 | 第71-72页 |
| 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-80页 |
| 攻读博士/硕士学位期间取得的研究成果 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 附件 | 第82页 |