基于迟滞逆补偿的硅基反铁电桥式微镜的滑模控制研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 一 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 激光通信概述 | 第10-11页 |
| 1.2 光束偏转技术分类及发展情况 | 第11-20页 |
| 1.2.1 机械偏转技术 | 第11-14页 |
| 1.2.2 电光偏转技术 | 第14-17页 |
| 1.2.3 声光偏转技术 | 第17-18页 |
| 1.2.4 液晶偏转技术 | 第18-20页 |
| 1.3 反铁电材料及其特性 | 第20-23页 |
| 1.3.1 反铁电材料的发展 | 第20-21页 |
| 1.3.2 反铁电材料的特性 | 第21-23页 |
| 1.4 本文研究内容与方法 | 第23-26页 |
| 二 桥式微镜结构的设计 | 第26-37页 |
| 2.1 力学分析 | 第26-28页 |
| 2.2 PLZT反铁电桥式微镜仿真分析及结构优化 | 第28-34页 |
| 2.2.1 桥式结构微镜 | 第28-29页 |
| 2.2.2 模型仿真 | 第29-30页 |
| 2.2.3 静电分析 | 第30-31页 |
| 2.2.4 结构优化 | 第31-34页 |
| 2.3 PLZT厚膜的制备 | 第34-36页 |
| 2.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 三 Preisach迟滞模型 | 第37-58页 |
| 3.1 Preisach模型迟滞算子 | 第37-41页 |
| 3.2 Preisach算子的离散化表达 | 第41-44页 |
| 3.3 PLZT反铁电桥式微镜测试 | 第44-46页 |
| 3.4 Preisach改进模型与双线性插值法 | 第46-52页 |
| 3.5 机器学习模型 | 第52-57页 |
| 3.6 本章小结 | 第57-58页 |
| 四 PLZT反铁电桥式微镜的位移跟踪控制方案 | 第58-78页 |
| 4.1 复合控制方案 | 第58-60页 |
| 4.2 迟滞逆补偿控制 | 第60-63页 |
| 4.2.1 非线性逆补偿控制方案 | 第60-61页 |
| 4.2.2 微镜迟滞逆补偿的构建 | 第61-63页 |
| 4.3 自适应滑模控制 | 第63-66页 |
| 4.4 控制方案仿真研究 | 第66-77页 |
| 4.4.1 期望位移信号的设计 | 第66-67页 |
| 4.4.2 迟滞逆补偿的仿真研究 | 第67-70页 |
| 4.4.3 复合控制的仿真研究 | 第70-77页 |
| 4.5 本章小结 | 第77-78页 |
| 五 总结与展望 | 第78-80页 |
| 5.1 本文完成工作 | 第78-79页 |
| 5.2 本文创新点 | 第79页 |
| 5.3 未来工作展望 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-85页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及取得的研究成果 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
