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N型SiC外延材料少子寿命提升技术研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
符号对照表第12-13页
缩略语对照表第13-16页
第一章 绪论第16-22页
    1.1 研究背景第16-17页
    1.2 SiC材料少子寿命的研究现状第17-19页
    1.3 本文的主要工作第19-22页
第二章 少子寿命测试方法及原理第22-42页
    2.1 少子寿命的测试方法及理论第22-25页
        2.1.1 少数载流子的寿命第22-24页
        2.1.2 少数载流子寿命的测试方法第24-25页
    2.2 μ-PCD基本测试理论及仿真分析第25-36页
    2.3 半导体材料中本征缺陷的检测方法第36-39页
        2.3.1 ESR(电子自旋共振)简介第36-38页
        2.3.2 其他表征方法第38-39页
    2.4 本章小结第39-42页
第三章 热氧化与离子注入的实验方案第42-52页
    3.1 SiC材料热氧化的实验方案第42-47页
        3.1.1 热氧化方案介绍第42-43页
        3.1.2 热氧化结果及分析第43-47页
    3.2 C+离子注入实验第47-51页
        3.2.1 注入能量与剂量设计第48-50页
        3.2.2 C+离子注入实验方案第50-51页
    3.3 本章小结第51-52页
第四章C+离子注入 4H-SiC的实验结果与分析第52-66页
    4.1 C+离子注入对 4H-SiC材料ESR谱的影响第52-60页
    4.2 C+离子注入对 4H-SiC材料少子寿命的影响第60-64页
    4.3 本章小结第64-66页
第五章 总结与展望第66-70页
    5.1 工作总结第66-67页
    5.2 不足与展望第67-70页
参考文献第70-74页
致谢第74-76页
作者简介第76-77页

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