大功率半导体激光器腔面膜的研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 大功率半导体激光器 | 第10-11页 |
| 1.1.1 半导体激光器工作原理 | 第10-11页 |
| 1.1.2 大功率半导体激光器特性 | 第11页 |
| 1.2 腔面镀膜的意义 | 第11-14页 |
| 1.2.1 腔面镀膜的作用 | 第11-12页 |
| 1.2.2 腔面镀膜对激光器性能的影响 | 第12-14页 |
| 1.3 腔面镀膜研究现状 | 第14-15页 |
| 1.4 腔面镀膜研究重点 | 第15-16页 |
| 1.5 论文内容和安排 | 第16-18页 |
| 第2章 薄膜理论基础及制备技术 | 第18-32页 |
| 2.1 薄膜的形成 | 第18-19页 |
| 2.1.1 表面吸附 | 第18页 |
| 2.1.2 成核过程 | 第18-19页 |
| 2.1.3 膜的生长 | 第19页 |
| 2.2 薄膜制备技术 | 第19-21页 |
| 2.2.1 腔面镀膜技术介绍 | 第19-20页 |
| 2.2.2 离子辅助电子束蒸发技术 | 第20-21页 |
| 2.3 光学真空镀膜设备 | 第21-26页 |
| 2.3.1 真空系统 | 第22-23页 |
| 2.3.2 热蒸发系统 | 第23-25页 |
| 2.3.3 膜层厚度控制系统 | 第25页 |
| 2.3.4 界面主控制系统 | 第25-26页 |
| 2.4 薄膜的性质 | 第26-29页 |
| 2.4.1 薄膜的附着力 | 第26-27页 |
| 2.4.2 薄膜的光学损耗 | 第27-28页 |
| 2.4.3 薄膜的抗激光损伤 | 第28-29页 |
| 2.5 常用光学薄膜材料 | 第29-30页 |
| 2.5.1 二氧化钛（TiO2） | 第29页 |
| 2.5.2 二氧化硅（SiO2） | 第29-30页 |
| 2.5.3 其它常见的薄膜材料 | 第30页 |
| 2.6 本章小结 | 第30-32页 |
| 第3章 半导体激光器腔面膜设计 | 第32-46页 |
| 3.1 单一界面的反射率和透射率 | 第32-34页 |
| 3.1.1 光波与光学导纳 | 第32-33页 |
| 3.1.2 菲涅耳公式 | 第33-34页 |
| 3.1.3 等效界面 | 第34页 |
| 3.2 增透膜理论及设计 | 第34-42页 |
| 3.2.1 增透膜理论 | 第34-36页 |
| 3.2.2 增透膜设计 | 第36-40页 |
| 3.2.3 增透膜优化设计 | 第40-42页 |
| 3.3 高反膜理论及设计 | 第42-44页 |
| 3.3.1 高反膜理论 | 第42页 |
| 3.3.2 周期性多层膜 | 第42-43页 |
| 3.3.3 高反膜设计 | 第43-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 半导体激光器及其腔面膜的制备与性能分析 | 第46-64页 |
| 4.1 镀膜工艺对膜质量的影响 | 第46-49页 |
| 4.1.1 真空度对镀膜的影响 | 第46-47页 |
| 4.1.2 离子辅助对镀膜的影响 | 第47-48页 |
| 4.1.3 蒸发速率对镀膜的影响 | 第48-49页 |
| 4.1.4 衬底温度对镀膜的影响 | 第49页 |
| 4.2 半导体激光器工艺 | 第49-52页 |
| 4.2.1 半导体激光器的外延生长 | 第50页 |
| 4.2.2 半导体激光器的流片工艺 | 第50-51页 |
| 4.2.3 腔面镀膜工艺 | 第51-52页 |
| 4.3 薄膜测试及结果分析 | 第52-59页 |
| 4.3.1 增透膜反射率测试 | 第52-55页 |
| 4.3.2 优化增透膜的测试 | 第55-57页 |
| 4.3.3 高反膜反射率测试 | 第57-58页 |
| 4.3.4 反射率曲线误差分析 | 第58-59页 |
| 4.4 半导体激光器性能测试及分析 | 第59-61页 |
| 4.5 半导体激光器老化实验及失效分析 | 第61-62页 |
| 4.6 本章小结 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
