脉冲场致发射性能研究及其器件应用
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 脉冲场致发射研究背景和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 碳纳米管的概述 | 第11-13页 |
| 1.3 影响碳纳米管场致发射的因素 | 第13-16页 |
| 1.3.1 碳纳米管几何结构 | 第14-15页 |
| 1.3.2 环境气体等因素 | 第15-16页 |
| 1.4 论文安排 | 第16-18页 |
| 第二章 场致发射相关理论及前期工作 | 第18-26页 |
| 2.1 场致发射原理 | 第18-22页 |
| 2.1.1 固体内部电子状态与表面势垒 | 第18-21页 |
| 2.1.2 固体场致电子发射 | 第21-22页 |
| 2.2 场致发射冷阴极的制备 | 第22-26页 |
| 2.2.1 丝网印刷法介绍 | 第22-23页 |
| 2.2.2 冷阴极的制备 | 第23-26页 |
| 第三章 脉冲场致发射二极结构性能研究 | 第26-44页 |
| 3.1 用于脉冲场发射的高压脉冲电源研究 | 第26-32页 |
| 3.1.1 高压脉冲技术简介 | 第26-28页 |
| 3.1.2 高压脉冲电源制作 | 第28-32页 |
| 3.2 脉冲场发射大电流性能研究 | 第32-36页 |
| 3.2.1 场发射二极结构性能研究方法 | 第32-34页 |
| 3.2.2 直流驱动下的大电流特性 | 第34页 |
| 3.2.3 脉冲驱动下的大电流特性 | 第34-36页 |
| 3.3 脉冲场发射大电流响应及原因分析 | 第36-43页 |
| 3.3.1 脉冲场发射大电流响应 | 第36-39页 |
| 3.3.2 理论分析 | 第39-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 脉冲场致发射三极结构性能研究 | 第44-54页 |
| 4.1 场发射三极结构简述及研究方法 | 第44-46页 |
| 4.2 三极结构场致发射性能研究 | 第46-48页 |
| 4.2.1 直流驱动下三极结构性能研究 | 第46-47页 |
| 4.2.2 脉冲驱动下三极结构性能研究 | 第47-48页 |
| 4.3 场致发射三极结构栅网的改善 | 第48-52页 |
| 4.3.1 蒸镀MgO栅网三极结构性能研究 | 第48-50页 |
| 4.3.2 覆盖碳膜栅网三极结构性能研究 | 第50-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 脉冲场致发射器件应用 | 第54-62页 |
| 5.1 碳纳米管冷阴极X射线管概述 | 第54-56页 |
| 5.2 碳纳米管冷阴极X射线管成像实验 | 第56-60页 |
| 5.2.1 基于影像增强器系统的快速成像实验 | 第56-59页 |
| 5.2.2 胶片成像实验 | 第59-60页 |
| 5.3 本章小结 | 第60-62页 |
| 第六章 总结 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 作者简介 | 第68页 |
