| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 前言 | 第9页 |
| 1.2 氧化钛纳米线的优势 | 第9-10页 |
| 1.2.1 环保及信息化重任 | 第9-10页 |
| 1.2.2 解决危机的途径 | 第10页 |
| 1.2.3 为什么是 Ti_3O_5 | 第10页 |
| 1.3 氧化钛纳米线结构特点 | 第10-13页 |
| 1.3.1 纳米材料的结构特点 | 第10-11页 |
| 1.3.2 Ti_3O_5的结构与性质 | 第11-13页 |
| 1.4 纳米 Ti_3O_5的优异性能 | 第13-17页 |
| 1.4.1 光存储性 | 第13-15页 |
| 1.4.2 氧敏性 | 第15-16页 |
| 1.4.3 电阻‐温度稳定性 | 第16页 |
| 1.4.4 光催化性 | 第16-17页 |
| 1.5 纳米 Ti_3O_5的应用 | 第17-19页 |
| 1.5.1 信息存储材料 | 第17-18页 |
| 1.5.2 传感器材料 | 第18页 |
| 1.5.3 光学薄膜的制备材料 | 第18页 |
| 1.5.4 颜料 | 第18-19页 |
| 1.5.5 光催化剂 | 第19页 |
| 1.6 氧化钛纳米线的制备方法 | 第19-21页 |
| 1.6.1 还原纳米二氧化钛 | 第19-20页 |
| 1.6.2 气相沉积法 | 第20页 |
| 1.6.3 溶胶‐凝胶法 | 第20-21页 |
| 1.6.4 水热法与溶剂热法 | 第21页 |
| 1.6.5 超声法和微波法 | 第21页 |
| 1.7 本课题意义与研究内容 | 第21-23页 |
| 1.7.1 立题依据及意义 | 第21-22页 |
| 1.7.2 研究内容及创新点 | 第22-23页 |
| 第2章 Ti_3O_5纳米线的制备与表征 | 第23-32页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 实验材料与仪器 | 第23-24页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第23-24页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第24页 |
| 2.3 实验装置与制备过程 | 第24-28页 |
| 2.3.1 实验装置 | 第24-26页 |
| 2.3.2 纳米线的制备流程 | 第26-28页 |
| 2.4 Ti_3O_5纳米线性能测试与表征 | 第28-31页 |
| 2.4.1 X‐ray diffraction（XRD） | 第28-29页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第29页 |
| 2.4.3 透射电子显微镜（TEM） | 第29-31页 |
| 2.4.4 光催化性能测试 | 第31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 自诱导 Ti_3O_5纳米线的制备工艺及性能 | 第32-52页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 硅化钛粉末的制备 | 第32-33页 |
| 3.3 Ti_3O_5纳米线的制备 | 第33-35页 |
| 3.4 Ti_3O_5纳米线的晶相形成过程机理研究 | 第35-37页 |
| 3.5 Ti_3O_5纳米线的晶相形成研究 | 第37-44页 |
| 3.5.1 反应温度对 APCVD 法纳米线制备的影响研究 | 第37-39页 |
| 3.5.2 反应时间对 APCVD 法纳米线制备的影响研究 | 第39-42页 |
| 3.5.3 O_2的体积流量对 APCVD 法纳米线的影响研究 | 第42-44页 |
| 3.6 降温过程纳米线的生长情况 | 第44-45页 |
| 3.7 Ti_3O_5纳米线生成的热力学分析 | 第45-48页 |
| 3.8 Ti_3O_5纳米线光催化性能的研究 | 第48-51页 |
| 3.9 本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 结论与展望 | 第52-54页 |
| 4.1 结论 | 第52-53页 |
| 4.2 研究展望 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第59页 |
