| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 材料光谱发射率的研究价值及应用现状 | 第10-11页 |
| 1.2 发射率的分类 | 第11-12页 |
| 1.3 发射率测量技术研究现状 | 第12-15页 |
| 1.3.1 反射法 | 第13-14页 |
| 1.3.2 量热法 | 第14页 |
| 1.3.3 多波长法 | 第14页 |
| 1.3.4 能量对比法 | 第14-15页 |
| 1.4 发射率测量技术存在问题 | 第15页 |
| 1.5 研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 发射率的影响因素及红外辐射基础理论 | 第16-26页 |
| 2.1 材料发射率的影响因素 | 第16-21页 |
| 2.1.1 材料特性对发射率的影响 | 第16-17页 |
| 2.1.2 温度、波长对材料发射率的影响 | 第17-18页 |
| 2.1.3 表面条件对发射率的影响 | 第18-20页 |
| 2.1.4 测量环境的影响因素 | 第20-21页 |
| 2.1.5 测量仪器对发射率的影响 | 第21页 |
| 2.2 红外辐射基本理论 | 第21-26页 |
| 2.2.1 基尔霍夫定律 | 第21-22页 |
| 2.2.2 普朗克辐射定律 | 第22-23页 |
| 2.2.3 维恩位移定律 | 第23页 |
| 2.2.4 斯忒藩-玻尔兹曼定律 | 第23-26页 |
| 第三章 光谱发射率测量装置 | 第26-32页 |
| 3.1 测量装置基本原理 | 第26页 |
| 3.2 测量装置介绍 | 第26-32页 |
| 3.2.1 样品加热及控温系统 | 第27-29页 |
| 3.2.2 黑体加热装置 | 第29-30页 |
| 3.2.3 傅里叶变换红外光谱仪 | 第30-31页 |
| 3.2.4 光学系统 | 第31-32页 |
| 第四章 金属镍的光谱发射率特性研究 | 第32-42页 |
| 4.1 引言 | 第32-33页 |
| 4.2 金属镍光谱发射率特性研究 | 第33-39页 |
| 4.2.1 样品制备 | 第33-34页 |
| 4.2.2 氩气保护下纯镍的光谱发射率 | 第34-36页 |
| 4.2.3 粗糙度影响纯镍光谱发射率的研究 | 第36-39页 |
| 4.2.4 纯镍在不同温度下氧化 8h后的光谱发射率 | 第39页 |
| 4.3 本章小结 | 第39-42页 |
| 第五章 金属钴的光谱发射率特性研究 | 第42-48页 |
| 5.1 引言 | 第42-43页 |
| 5.2 金属钴光谱发射率特性研究 | 第43-46页 |
| 5.2.1 样品制备 | 第43页 |
| 5.2.2 氩气保护下金属钴的光谱发射率 | 第43-45页 |
| 5.2.3 氧化作用对于金属钴发射率的影响 | 第45-46页 |
| 5.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 第六章 总结及展望 | 第48-50页 |
| 6.1 总结 | 第48页 |
| 6.2 展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |