| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-33页 |
| 1.1 非晶硅概述 | 第13-21页 |
| 1.1.1 非晶硅的微观网络结构 | 第14-16页 |
| 1.1.2 非晶硅的电子结构 | 第16-19页 |
| 1.1.3 非晶硅的光学特性 | 第19-21页 |
| 1.2 非晶硅薄膜金属掺杂研究现状 | 第21-30页 |
| 1.2.1 非晶硅的常规掺杂 | 第21-23页 |
| 1.2.2 非晶硅的金属掺杂 | 第23-30页 |
| 1.3 本论文主要工作 | 第30-33页 |
| 1.3.1 选题意义 | 第30-31页 |
| 1.3.2 主要研究内容 | 第31-32页 |
| 1.3.3 文章结构安排 | 第32-33页 |
| 第二章 非晶硅薄膜制备及主要表征方法 | 第33-43页 |
| 2.1 磁控溅射工作原理 | 第33-35页 |
| 2.2 样品制备 | 第35-37页 |
| 2.2.1 磁控溅射制备金属掺杂非晶硅薄膜 | 第35-36页 |
| 2.2.2 等离子增强化学气相沉积制备非晶硅薄膜 | 第36-37页 |
| 2.2.3 金属电极制备 | 第37页 |
| 2.2.4 湿法腐蚀制备硅微纳结构 | 第37页 |
| 2.3 薄膜特性表征方法 | 第37-42页 |
| 2.3.1 拉曼散射光谱法 | 第37-38页 |
| 2.3.2 X射线衍射分析 | 第38页 |
| 2.3.3 扫描电子显微分析 | 第38-39页 |
| 2.3.4 透射电子显微分析 | 第39页 |
| 2.3.5 电阻率及电阻温度系数测试方法 | 第39-40页 |
| 2.3.6 椭圆偏振光谱法 | 第40-41页 |
| 2.3.7 光致发光测试方法 | 第41-42页 |
| 2.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 非晶硅钌薄膜微纳结构及其演化规律 | 第43-62页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 制备态薄膜的非晶网络结构演化与纳米晶化 | 第43-51页 |
| 3.2.1 研究背景 | 第43-44页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第44-45页 |
| 3.2.3 结果分析 | 第45-51页 |
| 3.3 退火处理对薄膜微纳结构的影响 | 第51-56页 |
| 3.3.1 研究背景 | 第51页 |
| 3.3.2 实验过程 | 第51页 |
| 3.3.3 结果分析 | 第51-56页 |
| 3.4 钌对氢化非晶硅钌薄膜中硅氢组态的影响 | 第56-60页 |
| 3.4.1 研究背景 | 第56-57页 |
| 3.4.2 实验过程 | 第57页 |
| 3.4.3 结果分析 | 第57-60页 |
| 3.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第四章 非晶硅钌薄膜光电特性及其应用 | 第62-82页 |
| 4.1 引言 | 第62页 |
| 4.2 薄膜电学特性研究 | 第62-66页 |
| 4.2.1 研究背景 | 第62-63页 |
| 4.2.2 实验过程 | 第63页 |
| 4.2.3 结果分析 | 第63-66页 |
| 4.3 薄膜光学常数调控及光学带隙优化 | 第66-75页 |
| 4.3.1 研究背景 | 第66-67页 |
| 4.3.2 实验过程 | 第67-68页 |
| 4.3.3 结果分析 | 第68-75页 |
| 4.4 准二维无序材料构建及其应用 | 第75-80页 |
| 4.4.1 研究背景 | 第75-76页 |
| 4.4.2 实验过程 | 第76-77页 |
| 4.4.3 结果分析 | 第77-80页 |
| 4.5 本章小结 | 第80-82页 |
| 第五章 非晶硅银薄膜微纳结构及其光电特性 | 第82-99页 |
| 5.1 引言 | 第82-84页 |
| 5.2 薄膜微纳结构演化 | 第84-88页 |
| 5.2.1 研究背景 | 第84页 |
| 5.2.2 实验过程 | 第84-85页 |
| 5.2.3 结果分析 | 第85-88页 |
| 5.3 薄膜光电特性研究 | 第88-94页 |
| 5.3.1 研究背景 | 第88页 |
| 5.3.2 实验过程 | 第88页 |
| 5.3.3 结果分析 | 第88-94页 |
| 5.4 薄膜光致发光特性研究 | 第94-98页 |
| 5.4.1 研究背景 | 第94-95页 |
| 5.4.2 实验过程 | 第95页 |
| 5.4.3 结果分析 | 第95-98页 |
| 5.5 本章小结 | 第98-99页 |
| 第六章 非晶硅银薄膜忆阻特性及其应用研究 | 第99-114页 |
| 6.1 引言 | 第99-101页 |
| 6.2 非晶硅银薄膜忆阻器试制及其阻变功能实现 | 第101-104页 |
| 6.2.1 研究背景 | 第101-102页 |
| 6.2.2 实验过程 | 第102页 |
| 6.2.3 结果分析 | 第102-104页 |
| 6.3 基于非晶硅银薄膜忆阻器的光开关仿真研究 | 第104-110页 |
| 6.3.1 研究背景 | 第104-105页 |
| 6.3.2 仿真过程 | 第105页 |
| 6.3.3 结果分析 | 第105-110页 |
| 6.4 基于非晶硅银薄膜忆阻器的光读取仿生神经突触仿真研究 | 第110-113页 |
| 6.4.1 研究背景 | 第110-111页 |
| 6.4.2 仿真过程 | 第111页 |
| 6.4.3 结果分析 | 第111-113页 |
| 6.5 本章小结 | 第113-114页 |
| 第七章 结论与展望 | 第114-117页 |
| 7.1 全文工作总结 | 第114-115页 |
| 7.2 创新点 | 第115-116页 |
| 7.3 展望 | 第116-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
| 参考文献 | 第118-133页 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 | 第133-135页 |