| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 金属腐蚀研究现状 | 第11-17页 |
| 1.2.1 实验研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2.2 理论模拟研究现状 | 第12-17页 |
| 1.3 本文研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 理论计算方法 | 第19-25页 |
| 2.1 密度泛函理论 | 第19-21页 |
| 2.1.1 Hohenberg-Kohn定理 | 第19-20页 |
| 2.1.2 Kohn-Sham方程 | 第20-21页 |
| 2.2 自洽场计算 | 第21-22页 |
| 2.3 过渡态理论 | 第22-23页 |
| 2.4 态密度 | 第23-24页 |
| 2.5 计算采用软件MS简介 | 第24-25页 |
| 2.5.1 MS简介 | 第24页 |
| 2.5.2 CASTEP模块介绍 | 第24-25页 |
| 第三章 Br/Cl在金属Ni(100)表面吸附及渗入研究 | 第25-41页 |
| 3.1 引言 | 第25-26页 |
| 3.2 计算方法 | 第26-27页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第27-39页 |
| 3.3.1 Br/Cl在Ni(100)表面吸附行为研究 | 第27-33页 |
| 3.3.2 Br/Cl渗入Ni基体内部过程研究 | 第33-36页 |
| 3.3.3 Br/Cl破坏Ni基体结构行为研究 | 第36-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 Br/Cl在NiO(111)表面吸附及渗入研究 | 第41-64页 |
| 4.1 引言 | 第41-42页 |
| 4.2 计算方法 | 第42页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第42-62页 |
| 4.3.1 氧在Ni(100)表面吸附 | 第42-44页 |
| 4.3.2 Br/Cl在NiO(111)表面吸附行为研究 | 第44-48页 |
| 4.3.3 Br/Cl渗入NiO基体内部过程研究 | 第48-57页 |
| 4.3.4 Br/Cl破坏NiO基体结构行为研究 | 第57-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
