| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 半导体气敏传感器 | 第13-15页 |
| 1.2.1 气敏传感器的研究意义 | 第13页 |
| 1.2.2 半导体气敏传感器的分类 | 第13-14页 |
| 1.2.3 半导体气敏传感器的性能指标 | 第14-15页 |
| 1.3 基于氧化钴半导体纳米材料的气敏传感器 | 第15-20页 |
| 1.3.1 纳米半导体的简介 | 第15-16页 |
| 1.3.2 氧化钴纳米材料的性质和应用 | 第16-17页 |
| 1.3.3 氧化钴纳米半导体气敏传感器的研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3.4 氧化钴纳米半导体气敏传感器的不足和改进手段 | 第19-20页 |
| 1.4 本论文的研究意义和研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-27页 |
| 2.1 实验试剂 | 第22-23页 |
| 2.2 实验仪器 | 第23页 |
| 2.3 材料的表征 | 第23-24页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第24页 |
| 2.3.2 透射电子显微镜(TEM) | 第24页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第24页 |
| 2.3.4 X射线电子能谱(XPS) | 第24页 |
| 2.4 气敏传感器的设计 | 第24-25页 |
| 2.5 气敏检测系统和测试方法 | 第25-27页 |
| 第三章 基于Co_3O_4纳米颗粒的NH3传感器制备及性能研究 | 第27-38页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 Co_3O_4纳米颗粒的制备过程 | 第27-28页 |
| 3.2.1 实验试剂和材料 | 第27页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第27-28页 |
| 3.3 表征分析结果 | 第28-31页 |
| 3.3.1 XRD表征 | 第28-29页 |
| 3.3.2 SEM表征 | 第29-30页 |
| 3.3.3 TEM表征 | 第30页 |
| 3.3.4 光学带隙分析 | 第30-31页 |
| 3.4 基于Co_3O_4纳米颗粒的气敏传感器的性能研究 | 第31-36页 |
| 3.4.1 气敏元件的设计 | 第31-32页 |
| 3.4.2 电学测试结果 | 第32-33页 |
| 3.4.3 常温下传感器的响应-恢复情况 | 第33-34页 |
| 3.4.4 研究气敏元件响应-恢复时间 | 第34-35页 |
| 3.4.5 研究气敏元件重复性和稳定性 | 第35-36页 |
| 3.5 气敏反应机理分析 | 第36-37页 |
| 3.6 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 Co_3O_4纳米片阵列的制备及其在室温下气敏性能的研究 | 第38-51页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 Co_3O_4纳米片阵列的制备过程 | 第38-39页 |
| 4.2.1 实验试剂和材料 | 第38页 |
| 4.2.2 制备过程 | 第38-39页 |
| 4.3 Co_3O_4纳米片阵列物相结构和形貌表征 | 第39-43页 |
| 4.3.1 材料物相结构表征 | 第39-40页 |
| 4.3.2 SEM形貌表征 | 第40页 |
| 4.3.3 TEM表征 | 第40-41页 |
| 4.3.4 Co_3O_4纳米片孔径分析 | 第41-42页 |
| 4.3.5 元素分析 | 第42页 |
| 4.3.6 光学带隙分析 | 第42-43页 |
| 4.4 Co_3O_4纳米片的形成机理 | 第43-44页 |
| 4.5 气敏材料的伏安特性曲线 | 第44页 |
| 4.6 在常温下对元件进行气敏测试 | 第44-48页 |
| 4.6.1 研究气敏元件常温下的响应恢复情况 | 第45页 |
| 4.6.2 研究气敏元件响应-恢复时间 | 第45-46页 |
| 4.6.3 研究气敏元件重复性和长期稳定性 | 第46-47页 |
| 4.6.4 研究气敏元件选择性 | 第47-48页 |
| 4.7 气敏反应机理分析 | 第48-50页 |
| 4.8 本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 Cu掺杂的Co_3O_4纳米片的制备及其气敏性能的研究 | 第51-62页 |
| 5.1 引言 | 第51页 |
| 5.2 制备过程 | 第51页 |
| 5.2.1 实验使用试剂 | 第51页 |
| 5.2.2 材料合成过程 | 第51页 |
| 5.3 材料表征 | 第51-55页 |
| 5.3.1 XRD表征 | 第51-53页 |
| 5.3.2 形貌表征 | 第53-54页 |
| 5.3.3 EDS分析 | 第54-55页 |
| 5.3.4 光学带隙分析 | 第55页 |
| 5.4 Cu掺杂的Co_3O_4纳米片的气敏性能测试 | 第55-60页 |
| 5.4.1 在不同工作温度下的伏安特性曲线 | 第55-56页 |
| 5.4.2 不同工作温度下的响应度和响应-恢复情况 | 第56-57页 |
| 5.4.3 最佳工作温度下传感器的响应-恢复情况 | 第57-58页 |
| 5.4.4 检测传感器的重复性和长期稳定性 | 第58-60页 |
| 5.4.5 传感器的选择性 | 第60页 |
| 5.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第六章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 6.1 全文总结 | 第62-63页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及奖励情况 | 第71-72页 |
| (I) 攻读硕士学位期间发表论文 | 第71页 |
| (II) 获得奖励 | 第71-72页 |
