| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| ·课题背景及研究意义 | 第9页 |
| ·ZrO_2薄膜概述 | 第9-12页 |
| ·ZrO_2的相结构 | 第9-10页 |
| ·ZrO_2薄膜的性质及应用 | 第10-12页 |
| ·薄膜制备技术概述 | 第12-18页 |
| ·薄膜制备的化学方法 | 第12-13页 |
| ·薄膜制备的物理方法 | 第13-16页 |
| ·ZrO_2薄膜的国内外研究现状 | 第16-18页 |
| ·本课题的提出及主要研究内容 | 第18-19页 |
| 2 ZrO_2薄膜的制备及测试方法 | 第19-27页 |
| ·ZZX-1100型溅射镀膜设备简介 | 第19页 |
| ·试验过程 | 第19-20页 |
| ·制备ZrO_2薄膜的迟滞回线研究 | 第20-21页 |
| ·薄膜的测试方法 | 第21-27页 |
| ·薄膜结构的XRD测试原理 | 第21-22页 |
| ·薄膜成分的XPS测试原理 | 第22-23页 |
| ·Talay Hobson非接触式轮廓仪测试原理 | 第23-24页 |
| ·椭圆偏振光谱仪测试原理 | 第24-25页 |
| ·分光光度的测试原理 | 第25-27页 |
| 3 正交法制备ZrO_2薄膜试验 | 第27-33页 |
| ·正交试验原理及试验过程 | 第27-28页 |
| ·反应磁控溅射基本工艺参数的选取 | 第28-30页 |
| ·工艺因素分析 | 第28-29页 |
| ·工艺参数的选取 | 第29-30页 |
| ·正交试验方案 | 第30-31页 |
| ·因素水平地选取 | 第30页 |
| ·试验计划 | 第30-31页 |
| ·试验结果及分析 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 4 ZrO_2薄膜表面粗糙度、结构和组分的测试及分析 | 第33-38页 |
| ·不同氧流量对薄膜表面粗糙度的影响分析 | 第33-34页 |
| ·制备工艺参数 | 第33页 |
| ·表面粗糙度的测试分析结果 | 第33-34页 |
| ·不同氧流量对薄膜表面结构的影响分析 | 第34-35页 |
| ·制备工艺参数 | 第34页 |
| ·XRD测试结果分析 | 第34-35页 |
| ·薄膜XPS分析 | 第35-37页 |
| ·制备工艺参数 | 第35页 |
| ·XPS测试方法 | 第35页 |
| ·XPS测试结果分析 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 5 溅射工艺参数对ZrO_2薄膜性能的影响分析 | 第38-46页 |
| ·反应气体流量对薄膜性能的影响 | 第38-41页 |
| ·不同氧流量下薄膜的溅射工艺参数 | 第38页 |
| ·不同氧流量对薄膜沉积速率的影响分析 | 第38-39页 |
| ·不同氧流量对薄膜光学常数的影响分析 | 第39-40页 |
| ·不同氧流量对薄膜透过率的影响分析 | 第40-41页 |
| ·不同靶基距对薄膜性能的影响分析 | 第41-43页 |
| ·不同靶基距下薄膜的制备工艺参数 | 第41页 |
| ·不同靶基距对薄膜沉积速率的影响分析 | 第41-42页 |
| ·不同靶基距对薄膜光学常数的影响分析 | 第42-43页 |
| ·不同靶功率对薄膜性能的影响分析 | 第43-44页 |
| ·不同靶功率下制备薄膜的工艺参数 | 第43页 |
| ·不同靶功率对薄膜沉积速率的影响分析 | 第43-44页 |
| ·不同靶功率对薄膜光学常数的影响分析 | 第44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 6 ZrO_2薄膜抗激光损伤特性的研究 | 第46-51页 |
| ·激光对物质的作用机理 | 第46页 |
| ·薄膜抗激光损伤闽值的测试 | 第46-48页 |
| ·测试方法 | 第46-47页 |
| ·测试装置 | 第47-48页 |
| ·损伤的判定 | 第48页 |
| ·ZrO_2薄膜的抗激光损伤特性分析 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 7 结论 | 第51-53页 |
| ·结论 | 第51页 |
| ·对今后工作的建议 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |